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Terms for subject Microelectronics containing mask | all forms | exact matches only
EnglishGerman
absorbing mark on the maskAbsorptionsmarke auf der Maske
add another mask step for buried contactseinen weiteren Maskierungsschritt für vergrabene Kontakte erfordern
adjustment of mask pattem positionEinstellung der Maskenstrukturlage
align the mask with respect to the waferdie Maske zum Wafer justieren
alignment between all corresponding images in each maskÜberdeckung aller entsprechenden Bilder in jeder Maske
alligator mask assemblyAlligatormaskenanordnung (für doppelseitige Fotolithografie)
anti-features on the same maskeinander gegenüberliegende Strukturelemente auf einer Maske
anti-features on the same maskbenachbarte Strukturelemente auf einer Maske
aperture in the maskÖffnung in der Maske
aperture maskBlendenmaske
automatic inspection of mask defectsautomatische Defektkontrolle
automation of portions of the mask making processAutomatisierung von Teilen des Schablonenfertigungsprozesses
average out to one mask required per wafersich im Durchschnitt auf eine Maske je Wafer belaufen
basic types of mask alignersGrundtypen von Maskenjustier- und Belichtungsanlagen
bipolar mask busMaskenbus
borosilicate glass maskBorsilikatglasmaske
bring the resist into direct contact with the maskdas Resist in direkten Kontakt mit der Maske bringen
bump maskMaske für die Bondhügel
bypass a low-yielding part of the mask making processeinen Teil des Maskenherstellungsprozesses mit geringer Ausbeute umgehen
bypass many of the mask operationsviele Maskenoperationen umgehen
centre the mask over the waferdie Schablone über dem Wafer zentrieren
chrome checkerboard maskmatrixartige Chromdefekttestmaske
chrome maskChromschablone
chrome-on-glass maskChrommaske auf Glassubstrat
chromium maskChromschablone
clear-field test maskKlarfeldtestschablone
computerized mask artwork generationrechnergestützte Maskenvorlagenherstellung
contact duplication of the mask onto the waferKontaktkopierung der Maske auf den Wafer
contact mask alignment systemKontaktjustier- und Belichtungsanlage
contact printing from a mask to a waferKontaktbelichtung von einer Maske auf einen Wafer
contact window maskKontaktfenstermaske
contacting of both mask and wafer before exposureKontaktierung von Maske und Wafer vor der Belichtung
contact-print masks onto wafersMaskenstrukturen durch Kontaktbelichtung auf Wafer übertragen
copy from the mask structurevon der Maskenstruktur kopieren
copy maskDuplikatmaske (Arbeitsmaske)
copy of a chrome maskKopie einer Chrommaske
copy of the original maskKopie der Originalschablone
copy of the original maskDuplikat der Originalschablone
create a maskeine Maske herstellen (deren Struktur auf Bauelementsubstrate übertragen wird)
create a 4.0-mm wide image of the slit at the mask planeein 4 mm breites Bild des Spalts in der Maskenebene erzeugen
custom-built maskkundenspezifische Maske
custom-built maskindividuelle Maske
cut the mask generation time down by a factor of two to threedie Maskenherstellungszeit um das Zwei- bis Dreifache verringern (reduzieren)
dark-field chrome maskDunkelfeldchromschablone
deficiencies of the mask alignersNachteile der Justier- und Belichtungsanlagen
demagnified mask patternverkleinerte Maskenstruktur
design information for mask manufactureEntwurfsdaten für Maskenfertigung
deterioration of the mask qualityVerschlechterung der Schablonenqualität
direct generation of master masksDirektherstellung von Originalschablonen
direct production of mask mastersDirektherstellung von Originalschablonen (z. B. mit Elektronenstrahlen)
displacement between mask and wafer imageLageabweichung zwischen Masken- und Waferbild (z. B. bei Strukturelementen am Rand der Maske in der Röntgenlithografie)
displacement between mask and wafer imageBelichtungsversatz zwischen Masken- und Waferbild (z. B. bei Strukturelementen am Rand der Maske in der Röntgenlithografie)
displacement between mask and wafer imageVersatz zwischen Masken- und Waferbild (z. B. bei Strukturelementen am Rand der Maske in der Röntgenlithografie)
drive the wafer stage relative to the mask stage in a precise and controlled fashionden Wafertisch in bezug auf den Maskentisch in einer genau kontrollierten Weise antreiben (ansteuern)
dry etch maskTrockenätzmaske
electron beam mask drawingelektronenlithografische Maskenstrukturierung
electron beam mask drawingElektronenstrahl-schreiben der Maskenstruktur
electron beam mask writing systemElektronenstrahlmaskenschreiber
electron beam system for mask makingElektronenstrahlmaskenschreiber
electron beam system for mask makingElektronenstrahlanlage für Maskenschreiben
electron projector maskMaske für Elektronenbildprojektor
electron-beam mask generatorElektronenstrahlmaskenschreiber
electron-beam mask making capacityMaskenherstellungskapazität der Elektronenstrahlanlage
electron-beam mask making machineElektronenstrahlmaskenschreiber
electron-beam mask making systemElektronenstrahlmaskenschreiber
emulsion side of the master maskSchichtseite der Originalschablone
enabling maskFreigabemaske
etch maskÄtzmaske
expose a pattern in a contact printer through a chrome maskeine Struktur in einer Kontaktbelichtungsanlage durch eine Chromschablone belichten
extend to a distance less than a wavelength of light away from the masksich auf weniger als eine Lichtwellenlänge von der Maske erstrecken
fabricate intentionally defects into masksDefekte absichtlich in Masken erzeugen (für Defektkontrollzwecke)
fabricate the mask at final sizedie Maske in der endgültigen Größe herstellen
fast-acceleration turn-around mask manufacturing facilityMaskenherstellungsanlage mit kurzen Fertigungszeiten
final maskEndmaske
final maskendgültige Maske
fine-geometry maskMikrostrukturmaske
five-mask sequenceFünfmaskenprozeßfolge
focus the mask image onto the substratedas Maskenbild auf das Substrat fokussieren
form a mask pattern by scanning a raster in a serpentine mannereine Maskenstruktur durch serpentinenförmiges Abrastern erzeugen
formation of oxide maskBildung der Oxidmaske
fragile foil maskzerbrechliche Folienmaske
full-wafer maskGanzscheibenmaske
gap between mask and photoresist surfaceAbstand zwischen Maske und Lackoberfläche
gate metallization maskGatemetallisierungsmaske
generate a mask patterneine Maskenstruktur herstellen
generation of reticles as an intermediate step in producing masksHerstellung von Retikeln als Zwischenschritt in der Maskenherstellung
glass mask substrateGlasmaskensubstrat
gold maskGoldmaske
grid maskGittermaske
hang contact between mask and waferfester Kontakt zwischen Maske und Wafer
hang-copy maskHartkopiemaske
hang-surface maskHartmaske
high-volume mask manufacturing facilityMaskenfertigungsanlage für Massenproduktion
image the mask onto the waferdas Maskenbild auf den Wafer abbilden
image the mask with unity magnificationdie Maske mit einfacher Vergrößerung abbilden
implant maskMaske für Implantation
incorporate alignment targets in each mask or reticleJustiermarken in jeder Maske oder Belichtungsschablone einfügen
in-house mask making departmenteigene Abteilung für Maskenherstellung
inspect an X-ray mask for defectseine Röntgenmaske auf Fehler kontrollieren
inter-mask checkKontrolle von Maske zu Maske (der Schaltkreisstrukturen)
interconnection mask layerVerbindungsmaskenschicht
interpose a filter between condenser and maskein Filter zwischen Kondensor und Maske einsetzen
interrupt mask bitUnterbrechungsmaskenbit
interrupt mask registerUnterbrechungsmaskenregister
interrupt mask wordUnterbrechungsmaskenwort
intimate contact between mask and waferinniger Kontakt zwischen Schablone und Wafer
ion implant maskIonenimplantationsmaske
irradiate a mask onto the resist-coated waferdas Maskenbild auf den resistbeschichteten Wafer projizieren
keep each of the mask steps aligneddie Justierung durch alle Maskierungsschritte hindurch aufrechterhalten
level-to-level registration of masksÜberdekkung der Masken von Ebene zu Ebene
light field chrome maskHellfeldchromschablone
lithographic equipment for mask makinglithografische Anlage für Maskenherstellung
load a new mask into the systemeine neue Maske in das System einschleusen
loading of the mask cassetteLaden der Maskenkassette
low-defect maskMaske mit geringer Defektdichte
low-defect maskdefektarme Maske
low-reflectivity maskMaske mit geringem Reflexionsgrad
make the mask in one step from the magnetic tape datadie Maske in einem Bearbeitungsschritt nach den magnetbandgespeicherten Daten herstellen
make the master mask directly from the magnetic tape inputdie Originalschablone direkt von den Magnetbandeingangsdaten herstellen
mask alignerJustier- und Belichtungsanlage (aligning machine)
mask alignerMaskenjustier- und Belichtungsanlage (aligning machine)
mask alignment and exposure systemJustier- und Belichtungsanlage
mask alignment and exposure systemMaskenjustier- und Belichtungsanlage
mask alignment equipmentJustier- und Belichtungsanlage (aligning machine)
mask alignment equipmentMaskenjustier- und Belichtungsanlage (aligning machine)
mask apertureMaskenöffnung
mask artworkMaskenvorlage
mask bowingMaskendurchbiegung
mask breakageMaskenbruch
mask byteMaskenbyte
mask carrierMaskenträger
mask carrying replicated patternsMaske mit vervielfältigten Strukturen
mask cassetteSchablonenkassette
mask change logisticsMaskenwechsellogistik
mask comparatorSchablonenvergleichsgerät
mask contaminationMaskenverunreinigung
mask copyMaskenkopie
mask damage after 100 exposuresMaskenbeschädigung nach 100 Belichtungen
mask defectMaskendefekt
mask degradationMaskenverschlechterung
mask departmentMaskenkammer
mask design informationMaskenentwurfsdaten
mask distortionMaskenverzerrung
mask exposure stageMaskenbelichtungsstufe
mask fabrication processMaskenfertigungsverfahren
mask fabrication techniqueMaskenfertigungsverfahren
mask fabrication technologyMaskenherstellungstechnik
mask featureStrukturelement der Maske
mask feature placement errorStrukturlagefehler auf der Maske
mask generation techniqueMaskenherstellungsverfahren
mask generatorMaskenschreiber
mask gratingMaskengitter
mask holderSchablonenhalter
mask identification numberMaskenkennzeichnungsnummer
mask inspecting deviceDefektkontrollgerät
mask inspecting deviceMaskenkontrollgerät
mask inspectionDefektkontrolle der Maske
mask inspection equipmentDefektkontrollgerät
mask inspection equipmentMaskenprüfgerät
mask inspection stationDefektkontrollstation
mask inspection systemDefektkontrollgerät
mask inspection systemMaskenprüfgerät
mask inspection techniqueMaskenkontrollverfahren
mask integrityUnversehrtheit der Maske
mask-layer overlay registrationÜberdekkungsjustierung der Maskenebenen
mask levelMaskenebene
mask lifeMaskenlebensdauer
mask lifetimeMaskenlebensdauer
mask loading timeMaskeneinschleuszeit
mask makerMaskenhersteller
mask makingMaskenschreiben
mask making equipmentMaskenherstellungsanlage
mask making operationMaskenfertigungsprozeß
mask making processMaskenfertigungsprozeß
mask making speedMaskenherstellungsgeschwindigkeit
mask making systemMaskenschreiberanlage
mask making systemMaskenfertigungsanlage
mask making systemMaskenherstellungsanlage
mask making timeMaskenherstellungszeit
mask metrologyMaskenmeßtechnik
mask modification cycleMaskenänderungszyklus
mask movement in the contact positionMaskenbewegung in der Kontaktstellung
mask off the interruptdie Unterbrechung ignorieren
mask openingMaskenöffnung
mask outausblenden
mask out interrupts of lower priorityUnterbrechungen niedrigerer Priorität ausblenden
mask overlay accuracyMaskenüberdeckungsgenauigkeit
mask part of the wafer selectivelyeinen Teil des Wafers selektiv abdecken
mask patternSchablonenstruktur
mask patternMaskenstruktur
mask pellicleMaskenfolie
mask processing timeMaskenbearbeitungszeit
mask producerMaskenhersteller
mask programmablemaskenprogrammierbar
mask-programmed ROMMasken-ROM
mask-programmed ROMmaskenprogrammierter Festwertspeicher
mask reductionMaskenverkleinerung
mask registerMaskierungsregister
mask registrationMaskenüberdeckung
mask replication techniqueSchablonenkopierverfahren
mask replication techniqueMaskenvervielfältigungsverfahren
mask replicatorSchablonenvervielfältigungsanlage
mask replicatorMaskenvervielfältigungsanlage
mask runoutLagefehler auf der Maske
mask-sample gapAbstand von Maske zu Substrat
mask setSchablonensatz
mask shopMaskenproduktionsstätte
mask shrinkageMaskenverkleinerung
mask-slice separationAbstand Maske-Wafer
mask stacking errorMaskenüberdeckungsfehler
mask stageMaskentisch
mask superposition errorMaskenüberdeckungsfehler
mask taperKeiligkeit der Schablone
mask technologyMaskentechnik
mask the wafer for etchingden Wafer für den Ätzprozeß maskieren
mask-to-film separationAbstand Maske-Schicht
mask-to-mask registrationÜberdeckungsgenauigkeit von Maske zu Maske
mask-to-resist separationAbstand Maske-Resist
mask-to-slice separationAbstand Maske-Wafer
mask-to-wafer abrasionAbrieb zwischen Maske und Wafer
mask-to-wafer contactKontakt zwischen Maske und Wafer
mask-to-wafer contactMaske-Wafer-Kontakt
mask-to-wafer distanceAbstand Schablone-Wafer
mask-to-wafer gapAbstand Schablone-Wafer
mask-to-wafer positioning system with six degrees of freedomMaske-Wafer-Positioniersystem mit sechs Freiheitsgraden
mask-to-wafer registrationJustierung von Maske zu Wafer
mask-to-wafer registrationMaske-Wafer-Überdeckung
mask-to-wafer separationAbstand Maske-Wafer
mask-to-wafer spacingAbstand Maske-Wafer
mask-wafer gapAbstand Maske-Wafer
mask-wafer registrationMaske-Wafer-Überdeckung
mask-wafer SeparationAbstand Maske-Wafer
mask wearMaskenabnutzung
mask writing errorMaskenschreibfehler
mask-writing exposure systemMaskenschreiber
1×master maskMuttermaske
master maskMuttermaske
master mask at final sizeMuttermaske in endgültiger Größe
master mask at final sizeOriginalschablone in endgültiger Größe
master mask blankunbelichtete Originalmaskenplatte
match the first level maskder ersten Maske eines Satzes genau entsprechen
matrix of the maskMaskenverband
membrane maskFolienmaske
membrane maskMembranmaske
merits of the mask alignersVorteile der Justier- und Belichtungsanlagen
metal maskMetallschablone
metal maskMetallmaske
metallization maskMetallisierungsmaske
microelectronic mask fabricationmikroelektronische Maskenherstellung
misalignment error of the maskRasterfehler der Schablone
molybdenum maskMolybdänmaske
multilayer mask setMaskensatz für mehrere Schichtebenen
multiple-mask alignment schemeJustieranordnung für mehrere Masken
mylar maskMylarschablone
new-mask quality limitQualitätsgrenze für neue Masken
non-parallel spacing between mask and waferunparalleler Abstand zwischen Maske und Wafer
one-to-one mask projection technique1:1-Maskenprojektionsverfahren
opaque region on the maskopaker Bereich auf der Maske
opening in the metal maskFenster in der Metallmaske
opening in the metal maskÖffnung in der Metallmaske
optical mask stepperFotorepeater (zur Herstellung von Originalmasken)
original maskOriginalmaske
original maskOriginalschablone
out-of-contact mask alignment systemAbstandsjustier- und Belichtungsgerät
out-of-flat maskunebene Maske
out-of-flatness of the mask and waferUnebenheit der Maske und des Wafers
overlaid mask layersübereinander gezeichnete Maskenschichten
oxide diffusion maskOxiddiffusionsmaske
oxide window mask configurationOxidfenstermaskenkonfiguration
parallel transfer of a mask pattern to a substrateParallelübertragung einer Maskenstruktur auf ein Substrat
parallelism of the mask-to-wafer spacingParallelität des Maske-Wafer-Abstands
pattern detail on the maskStrukturdetail auf der Maske
pattern detail on the maskStrukturelement auf der Maske
pellicled maskmit einer Membrane geschützte Maske
pellicled maskmit einer Membran geschützte Maske
pen plot of a mask layerZeichnung einer Maskenschicht
photoresist maskFotolackmaske
photoresist maskFotoresistmaske
place two masks back-to-back on a carrierzwei Masken mit ihren Rückseiten zueinander auf einen Träger einsetzen
plasma etch maskPlasmaätzmaske
plot the mask layers individually or overlaiddie Maskenschichten einzeln oder übereinander zeichnen
position the resist within a few micrometres of the maskdas Resist in einem Abstand von wenigen Mikrometern von der Maske positionieren
positioning of a mask with respect to a samplePositionierung einer Maske in bezug auf eine Probe
precision setting of the mask-wafer gapFeineinstellung des Abstands Maske-Wafer
predesignate for a particular mask level/ tofür eine bestimmte Maskenebene vorbestimmen
primary chrome maskOriginalchromschablone
print the mask into the resistdie Schablone in das Resist kopieren
produce working copies from the master maskArbeitskopien von der Originalschablone herstellen
production maskArbeitsmaske
project a pattern onto the maskeine Struktur auf die Maske projizieren
project duplication of the mask onto the waferProjektionskopierung der Maske auf den Wafer
project mask alignerMaskenjustier- und Belichtungsanlage mit optischer Projektion (alignment system)
project mask alignerProjektionsjustier- und Belichtungsanlage (alignment system)
project mask alignment through a lensMaskenjustierung durch ein Objektiv im Projektionsverfahren
project mirror system between mask and waferProjektionsspiegelsystem zwischen Maske und Wafer
project the image from a mask onto a photosensitive resistdas Bild von der Maske auf den Fotolack projizieren
project the image of the mask at one to one magnification on to the waferdas Bild der Schablone im Verhältnis 1:1 auf den Wafer projizieren
project the mask image down onto the wafer surfacedas Maskenbild auf die Waferoberfläche projizieren
proving distance between mask and waferAbstand zwischen Schablone und Wafer
proving mask alignerAbstandsjustier- und Belichtungsgerät
proving mask alignment systemAbstandsjustier- und Belichtungsanlage
put the mask in near proximity to the waferdie Maske in einen kleinen Abstand zum Wafer bringen
quartz maskQuarzschablone
quartz-chrome maskQuarzchrommaske
rectilinear array of a maskSchablonenfeld
reference plane on the maskBezugsebene auf der Maske
refractive projection mask alignerProjektionsjustier- und Belichtungsanlage mit Linsenoptik
registration error between masksÜberdeckungsfehler zwischen Masken
registration of the mask images from level to levelÜberdeckung fder Maskenbilder zwischen den Ebenen
registration requirement of the mask designÜberdeckungsanforderung des Maskenentwurfs
relate the image to pattern on the maskdas Bild zur Struktur auf der Maske geometrisch in Beziehung setzen
repeat the pattern on a second level mask accuratelydie Struktur auf der zweiten Maske eines Satzes genau wiederholen
replicate the mask into polymethyl methacrylatedie Maske in PMMA abbilden
replicate the pattern from the mask on the waferdie Struktur von der Maske auf den Wafer abbilden
replication maskVervielfältigungsmaske
reregistrations per mask levelNeuüberdeckungen je Maskenebene
resist maskLackhaftmaske
resistor implant maskWiderstandsimplantationsmaske
reticle maskRetikelmaske
rugged X-ray maskstabile Röntgenmaske
same-size mask1:1 Maske
sample the quality of masksdie Qualität von Masken stichprobenartig prüfen
save a maskeine Maske einsparen
scan over the maskdie Maske abrastern
scan the mask and the wafer simultaneouslyMaske und Wafer gleichzeitig abtasten
scanning mask alignerWaferscanner
sealed mask carrierhermetisch abgeschlossener Maskenträger
see-through maskFenstermaske
Separation between mask and waferAbstand zwischen Maske und Wafer
set interrupt mask"Setzen Unterbrechungsmaske"
shadow mask fabricationSchattenmaskenherstellung
shadow mask of an ion implantation systemSchattenmaske einer Ionenimplantationsanlage
shadow mask techniqueSchattenmaskentechnik
sharp line edge maskMaske mit scharfen Linienkanten
shrink the pattern on the maskdie Struktur auf der Maske verkleinern
Si₃N₄ membrane maskSiliziumnitridmembranmaske
single mask technologyEinmaskentechnik
six-inch mask6"-Maske
six-inch maskSechszollmaske
slow speed in writing an entire maskgeringe Geschwindigkeit des Maskenschreibens
source-mask separationAbstand Quelle-Maske
spacing between mask and waferAbstand zwischen Maske und Wafer
square mask featurequadratisches Maskenstrukturelement
stable X-ray maskstabile Röntgenmaske
stacking of two masksÜberdeckung von zwei Masken
stencil maskSchablonenmaske
step defect reticles into randomly selected locations on the maskDefektretikel im Step-und-Repeat-Verfahren in willkürlich ausgewählte Plätze auf der Maske abbilden
step-and-repeat array distortion on the maskMatrixverzerrung auf der vom Repeater hergestellten Maske
step-and-repeat mask makingMaskenherstellung nach dem Repeatverfahren
step-and-repeat master masknach dem Step-und-Repeat-Verfahren hergestellte Originalschablone
stepping mask alignerScheibenrepeater
stepping-projection mask alignerScheibenrepeater
step-repeat imaging of a transparent foil mask at 10:1schrittweise Bildübertragung einer transparenten Folienmaske mit zehnfacher Verkleinerung
stop-and-go wafer and mask displacementVerschiebung von Wafer und Maske im Stop-and-go-Betrieb
substrate-to-mask alignmentJustierung von Substrat zu Maske
superimpose the image of one mask on the otherdas Bild der einen Maske mit dem anderen überdecken
superposition on a substrate of patterns from several masks to a precision of 0.1 μmÜberdeckung von Strukturen verschiedener Masken auf einem Substrat mit einer Genauigkeit von 0,1 μm
surrogate maskErsatzmaske
technology of E-beam mask makingTechnik des Elektronenstrahlmaskenschreibens
throw-away maskWegwerfmaske
tight registration tolerance over a large mask areaenge Überdeckungstoleranz in einer großen Maskenfläche
titanium X-ray maskTitanröntgenschablone
top maskobere Maske
transfer of mask image to photoresistÜbertragung des Schablonenbildes auf das Fotoresist
transfer the image from the mask to the slicedas Bild von der Maske auf die Scheibe übertragen
translate mask and waferMaske und Wafer parallel verschieben
traverse the masksich über die Maske hinwegbewegen
tri mask processDreimaskenprozeß
tri mask processDreimaskentechnik
turn around a mask in less than one houreine Maske in weniger als einer Stunde fertigstellen
turn-around for a mask set from an engineering design to a working deviceGesamtherstellungszeit für einen Maskensatz vom technischen Entwurf bis zum arbeitsfähigen Bauelement
turn-around for a mask set from an engineering design to a working deviceDurchlaufzeit für einen Maskensatz vom technischen Entwurf bis zum arbeitsfähigen Bauelement
turn-around time from the receipt of pattern data to the delivery of masksVerfahrenszeit vom Erhalt der Strukturdaten bis zur Maskenauslieferung
ultrafragile X-ray maskäußerst zerbrechliche Röntgenmaske
unflatness of masksUnebenheit der Schablonen
unlimited mask lifeunbegrenzte Maskenlebensdauer
unlimited mask lifetimeunbegrenzte Maskenlebensdauer
use the gate as a maskdas Gate als Maske verwenden (selbstjustierende Technik)
used-mask quality limitQualitätsgrenze für gebrauchte Masken
vary inversely as the number of wafer-to-mask contactssich im umgekehrten Verhältnis ändern wie die Anzahl der Wafer-Masken-Kontakte
via maskFenstermaske
wafer-mask alignment systemWafer-Masken-Justieranlage
wafer rotation with respect to the mask's axesWaferdrehung in bezug auf die Maskenachsen
wafer-size 1:1 mask1:1-Maske in Wafergröße
wafer-to-mask gapWafer-Maske-Abstand
working maskArbeitsschablone
working maskArbeitsmaske
working mask copyArbeitsmaskenkopie
1:1 working production maskArbeitsmaske für 1:1-Übertragung
write a maskeine Maske schreiben
writing of a master maskSchreiben einer Originalschablone
10x reduction projection mask alignerBelichtungsanlage mit 10fach verkleinerter Projektionsübertragung
X-ray lithography maskSchattenmaske
X-ray lithography maskRöntgenmaske
X-ray maskSchattenmaske
X-ray maskRöntgenmaske
X-ray mask alignmentRöntgenmaskenjustierung
X-ray mask substrateRöntgenmaskensubstrat
zero-access-defect maskdefektfreie Maske