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Terms for subject Microelectronics containing 2 | all forms
GermanEnglish
Abscheidung an der Si-SiO-Grenzschichtsegregation at the Si-SiO₂ interface
bis auf 2 V abfallendrop as low as 2 V
2-Chip-Mikroprozessortwo chip microprocessor
D A-Umsetzer mit invertiertem R-2R-Widerstand-Netzwerkinverted R-2R D-A converter
D-A-Umsetzer mit R-2R-Widerstand-NetzwerkR-2R ladder network D-A converter
die Strukturen bis zu einer Genauigkeit von etwa 0,2 Mikrometer positionierenplace geometries to an accuracy in the order of 0.2 micrometres
Dual-in-line-Gehäuse mit 2,5 mm Stiftabstandjelly bean (Schaltkreisgehäuse mit zwei Reihen von Anschlußstiften)
Dual-in-line-Gehäuse mit 2,5 mm Stiftabstanddual-in-line package (Schaltkreisgehäuse mit zwei Reihen von Anschlußstiften)
Einhaltung der Härtungstemperatur bis auf ±2 °Ccontrol of baking temperature within ±2 °C
Fenster zum SiO herausentwickelndevelop out windows to the SiO₂
Gleichmäßigkeit der Belichtung in dem Feld von 1 cm²exposure uniformity across the 1 cm² field
I²L-Gatter mit vier Kollektorenfour-collector I²L gate
integrierte Schaltkreise mit Strukturbreiten von 2 μm herstellenproduce integrated circuits with 2 μm design rules
Kleinleistungs-T²Llow-power Schottky T²L
kleinste Abmessungen im 1 bis 2-Mikrometerbereichleast dimensions in the 1 to 2 μm range
Ladungstransport an der Si-SiO-Grenzflächecharge propagation at the Si-SiO₂ interface
langsame T²Llow-speed TL
Lithografie für Strukturbreiten von 2,5 μm2.5-p.m lithography
μm Skalierungsbereich von 2 bis 12 μmscaling range of 2 to 12
μm Strukturgröße über 2,5 pmfeature greater than 2.5
nutzbare Elementgröße firn 1- bis 2-μm-Bereichusable feature size in the 1.0-2.0 micrometre range
nutzbare Linienbreite firn 1- bis 2-μm-Bereichusable feature size in the 1.0-2.0 micrometre range
nutzbare Strukturbreite firn 1- bis 2-μm-Bereichusable feature size in the 1.0-2.0 micrometre range
2-Phasen-CCDtwo-phase CCD (2-Phasen-Schaltung)
Potential an der Si-SiO-Grenzflächepotential at the Si-SiO₂ interface
Präzisionsverkleinerung von 2:1precision two-to-one reduction
2-Rampen-A/D-Umsetzerdual-slope integrating type A-D converter
2-Rampen-D-A-Umsetzerintegrating dual-slope D-A-converter
Röntgenausgangsleistung in der Größenordnung von 100 mW/cm²X-ray output power on the order of 100 microwatts per square centimetre (Röntgenlithografie)
Schaltkreiselement von 0,2 μm Breitecircuit line of 0.2 μm width
schnelle T²Lhigh-speed T²L
sich mit K2 vergrößernscale up as K2
Si-SiO-Grenzschichtsilicon-silicon-oxide interface
Strukturen mit Elementbreiten bis zu 0,2 μm scharf abbildendefine patterns with geometries as small as 0.2 micrometre
Teilerfunktion im Verhältnis 1:2divide-by-two function
Teilerstufe im Verhältnis 1:2divide-by-two stage
um π/2 phasenverschobenπ /2 out of phase
π/2 um /2 phasenverschobenout-of-phase by
Umverteilung an der Si-SiO-Grenzschichtredistribution at the Si-SiO₂ interface
Verkleinerung der Kanallängen bis zu 2 μmscaling of channel lengths down to 2 μm
Vierfach-2-Eingangs-Bus-Sender-Empfänger mit offenen Kollektorenquad two input OC bus transceiver
Vierfach-2-Eingangs-NAND-Gatterquad two input NAND gate (4-NAND-Gatter mit je zwei Eingängen)
Vierfach-2-Eingangs-NAND-Gatterquad-2-input NAND gate (4-NAND-Gatter mit je zwei Eingängen)
volle Eingangsspannung von +2 Voltfull-scale input of +2 volts
zulässige Defekte je cm2allowable defects per cm2
Änderung des Widerstands um den Faktor 2factor of 2 change in resistivity
Überdeckungsrepeater mit einer Projektionsverkleinerung von 2:12:1 step-and-repeat aligner