| German | English |
| 1:1-Abbildung auf Wafer | one-to-one wafer imaging |
| 1:1 Abbildungssystem | one-to-one imaging system |
| Ablenkfeld von 1 mm Kantenlänge | 1-mm-square deflection field |
| Anordnung mit einem Rastermaß von 0,1 mm | array having 0.1 mm pitch between diameters |
| Anordnung mit 128 Fotodioden im Rastermaß von 0,1 mm | array with 128 photodiodes on 0.1 mm pitch |
| Arbeitsmaske für 1:1-Übertragung | 1:1 working production mask |
| auf das 1,3fache des Nennwertes abgleichen | trim to 1.3x the nominal value |
| auflösbare Linienbreite von 1 μm | resolvable feature size of 1 μm |
| Bandbreite bei der Verstärkung 1 | unity gain bandwidth |
| Bauelementstrukturen bis auf 1 Mikrometer und darunter verkleinern | scale device features down to one micrometre and below |
| Bauelementstrukturen im 1-μm-Bereich | device geometries in the 1 μm feature region |
| bei Taktfrequenzen von 1 bis 3 GHz arbeiten | operate at clock frequencies of one to three GHz |
| Belichtung mit 1:1-Projektion | 1:1 printing |
| Bereich unter 0,1 μm | sub-tenth micron range |
| Bildfeld des 10:1-Verkleinerungsobjektivs | image field of the 10x reduction lens |
| Bildprojektion im Maßstab 1:1 | 1:1 image projection (Projektionslithografie) |
| Bildung von Strukturelementen im 1-pm-Bereich | formation of features in the 1 μm range |
| bis zu acht Chips in einem Baustein von 1 Quadratzoll kapseln | package up to eight chips within a 1 in. square module |
| 1-Bit-Verzögerungsglied | delay element of one-digit period |
| Blasendurchmesser bis zu 1 μm | bubble diameter down to 1 μm |
| B-minus-1-Komplement | radix-minus-one complement |
| B-minus-1-Komplement | diminished radix complement |
| 1-Chip-Mikrocomputer | single chipper |
| 1-Chip-Mikrocomputer | single chip microcomputer |
| 1-Chip-Mikroprozessor | single chip microprocessor |
| 1-Chip-Mikroprozessor | one-chip microprocessor |
| 1-Chip-Mikrorechner | one-chipper |
| 1-Chip-Mikrorechner | one-chip microcomputer |
| das Bild der Schablone im Verhältnis 1:1 auf den Wafer projizieren | project the image of the mask at one to one magnification on to the wafer |
| das fehlerhafte Bit durch eine entsprechende binäre 1 kennzeichnen | identify the erroneous bit by a corresponding binary 1 |
| Datenverdichtung bis zu 15:1 | data compression as large as 15:1 |
| den rechteckigen Querschnitt des Elekronenstrahls zwischen 0,1 und 12 μm Kantenlänge variieren | vary the rectangular cross section between 0.1 and 12 μm on a side |
| die Entwicklung der Strukturen bis in den 1-μm-Bereich vorantreiben | push geometries down to 1 μm area |
| die Gatelängen von 1 μm auf einige zehntel Mikrometer reduzieren | shrink gate lengths from 1 μm to a few tenths of a micrometre |
| die genaue Tischposition mit einer Toleranz von 1/8 bis 1/48 Wellenlänge eines Helium-Neon-Lasers bestimmen | determine exact stage position to tolerances ranging from 1/8 to 1/48 wavelength of a HeNe laser |
| die 1-μm-Barriere durchbrechen | cross the barrier of 1 μm |
| die Meßmarke mit einer Genauigkeit von 1/32 μm auffinden | find the fiducial mark with an accuracy of 1/32 micron |
| 1-Ebenen-Interrupt | single-level interrupt |
| ein bogenförmiges Bildfeld von 1 mm Breite rasterartig über den Wafer führen | scan an arc-shaped image field of 1 mm width across the wafer |
| ein einziges großformatiges Bild im Abbildungsmaßstab 1:1 projizieren | project a single large format image at final size |
| eine 1 in Bitposition 0 des Datenbusses ausgeben | output a 1 in bit position 0 of the data bus |
| eine 0 und eine 1 speichern | store a zero and a one |
| eine Verlustleistung von etwa 1 Watt haben | dissipate about 1 watt |
| Einhaltung der Elementbreite bis auf ± 0,1 μm | feature contral to ± 0.1 μm |
| fotolithografische 1:1-Projektionsanlage | optical 1:1 projection lithography system |
| 10:1-Fotorepeater | step-and-repeat 10:1 microreduction camera system |
| Gitterkonstante unter 0,1 μm | sub-0.1 μm periodicity |
| Gleichmäßigkeit der Belichtung in dem Feld von 1 cm² | exposure uniformity across the 1 cm² field |
| gleichzeitig um 1 dekrementiert | concurrently decremented by 1 |
| Goldschicht von einer Dicke unter 1 μm | layer of gold less than a micrometre thick |
| Grenzfrequenz für Verstärkung 1 | unity gain frequency |
| haftend an Logikpegel 1 | stuck-at 1 |
| im 1- bis 5-MHz-Bereich arbeiten | operate over a 1-to-5 megahertz range |
| im 1:1-Projektionsverfahren belichteter Wafer | 1:1 printed wafer |
| ionenimplantierter Widerstand mit niedrigem 1/f-Rauschen | ion-implanted resistor with low 1/f noise |
| 1:1-Justier- und Belichtungsanlage | 1 × printer |
| Justier- und Belichtungsverfahren mit 1:1-Projektion | 1:1 alignment |
| Justiergenauigkeit von 0,1 μm | tenth-micron alignment precision |
| kleinste Abmessungen im 1 bis 2-Mikrometerbereich | least dimensions in the 1 to 2 μm range |
| lichtoptische 1:1-Bildübertragung | one-to-one photoprinting |
| Linien und Abstände von 1 μm auflösen | resolve 1 μm lines and spaces |
| Linien von weitaus weniger als 1 μm Breite schreiben | draw lines much smaller than 1 μm (Elektronenstrahllithografie) |
| Linienrasterstruktur mit einem Rastermaß von 1 μm | 1-μm-wide line and space pattern |
| Linienstruktur mit dem Tastverhältnis 1:1 | 1 μm line-space array (μm) |
| Lithografie für 1:1-Strukturübertragung auf Wafer | wafer stepping lithography |
| Lithografie mit globaler Waferbelichtung durch 1:1-Projektion | 1:1 full-wafer lithography |
| logischer Zustand 1 | logic 1 state |
| logischer Zustand 1 | logic 1 |
| μm Größenmarkierung für 1 μm | scale marker for 1 |
| μm Mikrolinienstrukturen in der Größenordnung von 1 pm | fine line geometries of the order of 1 |
| μm mikrolithografische Versetzungen in Inkrementen von 0,1 μm | microlithographic displacements in increments of 0.1 |
| μm Strukturbreiten in einem großen Variationsbereich von 1,5 μm bis 3,0 μm | features ranging from as small as 1.5 μm to as large as 3.0 |
| 1:1 Maske | same-size mask |
| 1:1-Maske in Wafergröße | wafer-size 1:1 mask |
| 1:1-Maskenprojektionsverfahren | one-to-one mask projection technique |
| Matrix von Quadraten mit 1 mm Kantenlänge | array of one millimetre squares |
| 1:1 Mischung aus Entwickler und Wasser | mixture of one part developer to one part water |
| mit einem 1 μm dicken Resistfilm beschichten | coat with a one-micron film of photoresist |
| mit einer Geschwindigkeit von 0,1 μm in jedem Bildfeld justieren | align to 0.1μm at each exposure field |
| mit einer Verkleinerung von 10:1 auf den Wafer abbilden | image with a demagnification of 10:1 onto a wafer |
| 1-μm-Strukturen | one-micrometre geometries |
| nutzbare Elementgröße firn 1- bis 2-μm-Bereich | usable feature size in the 1.0-2.0 micrometre range |
| nutzbare Linienbreite firn 1- bis 2-μm-Bereich | usable feature size in the 1.0-2.0 micrometre range |
| nutzbare Strukturbreite firn 1- bis 2-μm-Bereich | usable feature size in the 1.0-2.0 micrometre range |
| 1-pm-Strukturelemente schreiben | delineate 1 μm features |
| 1/3-Potenz-Gesetz | one-third power law |
| 1:1-Projektion | one-to-one projection |
| 1:1-Projektionsanlage | one-to-one projection system |
| Projektionsanlage mit 1:1-Vergrößerung | unity-projection machine (Justier- und Belichtungsanlage) |
| Projektionsanlage mit 1:1-Vergrößerung | unity-magnification projection unit (Justier- und Belichtungsanlage) |
| 1:1-Projektionsbelichtungsanlage | 1:1 projection aligner |
| 1:1-Projektionsjustier- und Belichtungsanlage | 1:1 projection aligner |
| Präzisionsverkleinerung von 2:1 | precision two-to-one reduction |
| Retikel für Abbildungsmaßstab 10:1 | 10x reticle |
| richtig belichtet an der der 1-μm-Linie benachbarten Kante | properly exposed at the edge adjacent to the 1 μ line |
| Schaltkreis mit kleinsten Abmessungen von 1 μm | circuit with least dimensions of 1 μm |
| Schaltkreisstruktur für einen Eingangslastfaktor 1 und einen Ausgangslastfaktor 3 | circuit structure for a fan-in of 1 and a fan-out of 3 |
| Scheibenrepeater mit 10:1-Projektion | direct-step-on-wafer system using 10:1 optical projection |
| Schwellenspannungsverschiebung von weniger als 0,1 V | threshold shift of less than 0.1 V |
| sich im Verhältnis von 1/K verkleinern | scale as 1/K |
| Spannungsverstärkung von nahezu 1 | NDRO-unity voltage gain |
| Steg von 1 μm Breite | 1 μm-stripe |
| Step-und-Repeat-Anlage mit 1:1-Abbildung | one-to-one step and repeat system |
| Struktur mit Linien-breiten unter 1 pm | submicron line width pattern |
| Struktur mit Linienbreiten von 1 μm | 1-μm pattern |
| Strukturelement unter 1 μm | submicrometre pattern detail |
| Strukturelement unter 1 μm | submicrometre feature |
| Strukturen im Bereich von 0,5 bis 1 μm | geometry in the 0.5-to-1 μm range |
| Strukturen von 1,0 μm oder mehr erfordern | require geometries of 1.0 μm or greater |
| Strukturübertragung im Verhältnis 1:1 | image transfer at a 1:1 ratio |
| Tastverhältnis von 1:1 | unity mark-to-space ratio |
| Teilerfunktion im Verhältnis 1:2 | divide-by-two function |
| Teilerstufe im Verhältnis 1:2 | divide-by-two stage |
| 1-Transistor-RAM | one transistor RAM |
| um 1 dekrementieren | decrement by 1 |
| um 1 erhöhen | augment by 1 |
| Vektorgröße kleiner als 0,1 μm | vector magnitude less than 0.1 micron |
| Vergrößerung 1:1 | unity magnification |
| 10:1-Verkleinerungsobjektiv | 10:1 lens |
| Verstärker mit Verstärkungsfaktor 1 | unity gain amplifier |
| von 0 auf 1 springen | step to one (umschalten) |
| Waferbelichtung im Abbildungsmaßstab 1:1 | 1:1 wafer printing |
| Waferscanner mit 1:1 Projektionsbelichtung | 1:1 scanner |
| Wafer-Stepper mit optischer 10:1 -Projektionsübertragung | DSW 10:1 optical projection aligner |
| Zahlendarstellung mit Normalisierung des ersten Bits auf 1 ohne Abspeicherung | hidden bit representation |
| Zustand 1 | one state |
| 1-Zustand | one state |
| Überdeckung von Strukturen verschiedener Masken auf einem Substrat mit einer Genauigkeit von 0,1 μm | superposition on a substrate of patterns from several masks to a precision of 0.1 μm |
| Überdeckungsrepeater mit einer Projektionsverkleinerung von 2:1 | 2:1 step-and-repeat aligner |
| Überdeckungstoleranz von 0,1 μm zwischen den Ebenen | level to-level registration tolerance of 0.1 μm |
| Überdeckungsungenauigkeit der optischen 1:1 -Projektionsanlage | optical 1:1 projector overlay inaccuracy |
