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Microelectronics
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German
English
Abstand
in der
Struktur
gap in the pattern
Anordnung der Daten in einem Satz
arrangement of data in a record
Anweisung
in der
Auftragssprache
job-control Statement
Anwendung
in der
Produktion
production floor application
aus der Entwicklung schnell
in die
Produktion übergeleitet werden
rush from test bench to production line
aus der Entwicklungsphase
in den
Produktionsbetrieb überführen
take from laboratory to production line operation
Ausdehnung der isolierenden Sperrschicht
in das
Substrat
extension of the insulating depletion layer into the substrate
Ausdehnung der VLSI-Technik
in den
Submikrometerbereich
extension of VLSI technology into submicrometre geometries
Befehle
in der
halben Zeit ausführen
execute instructions in half the time
das Bild zur Struktur auf der Maske geometrisch in Beziehung setzen
relate the image to pattern on the mask
das Resist in direkten Kontakt mit der Maske bringen
bring the resist into direct contact with the mask
das Resist in einem Abstand von wenigen Mikrometern von der Maske positionieren
position the resist within a few micrometres of the mask
Datenpunkt
in der
Matrix
data point in the array
Defekt
in der
Anlage
malfunction in the equipment
Defektretikel im Step-und-Repeat-Verfahren in willkürlich ausgewählte Plätze auf der Maske abbilden
step defect reticles into randomly selected locations on the mask
den Inhalt der Adresse
in den
Eingangsbus senden
send out the contents of the address onto the input bus
den normalen Betrieb
in der
Unterbrechungsstelle wiederaufnehmen
resume ordinary operation from the point of the interrupt
den sicheren Sitz der Leiterplatte
in der
Steckverbindung gewährleisten
keep the board securely seated in the connector
den Strahl
in der
Mitte eines Feldes positionieren
position the beam at the centre of a field
den Wert
in der
kürzestmöglichen Zeit zurückführen
return the value in the shortest possible time
die Entwicklung der Strukturen bis
in den
1-μm-Bereich vorantreiben
push geometries down to 1 μm area
die Maske
in der
endgültigen Größe herstellen
fabricate the mask at final size
die Operation
in der
Zeit des anliegenden Belegtsignals aussetzen
suspend operation until the busy signal disappears
die Scheibe
in die
Haltevorrichtung mit der vorderen Oberfläche nach oben einsetzen
load the slice in the fixture with the front surface up
die Scheibe um ihren Mittelpunkt
in der
Scheibenebene drehen
rotate the slice about its centre in the slice plane
die vollständige Struktur für alle Chips in natürlicher Größe der endgültigen Strukturelemente enthalten
contain the complete pattern for all dice at the actual size of the final features
(1 ×)
Diffusion von der Vorderseite des Wafers
in die
Schicht
diffusion from front side of wafer into film
Diffusionsvermögen von Elektronen und Defektelektronen
in der
Basis
diffusivity of electrons and holes in the base
Durchbiegung
in der
Mitte
centre-point bow
Ebene
in der
Höhe der Oberseite des Substrats
plane at the level of the topside of the substrate
ein 4 mm breites Bild des Spalts
in der
Maskenebene erzeugen
create a 4.0-mm wide image of the slit at the mask plane
Einsetzen der Kassetten
in die
Ladekammer
insertion of cassettes into the load chamber
Elektronenübergang
in der
Schale
electronic transition in the shell
Elementgröße
in der
Einzelbildstruktur
feature dimension in the die pattern
Fehler durch Störung
in der
Anlage
hang error
Fehler
in der
Anlage
malfunction in the equipment
Fehler
in der
Tischpositionierung kompensieren
compensate for errors in stage position
Fehler
in der
Überdeckung zwischen den Strukturen
pattern misregistration
fehlerhafte Justierung zwischen lithografischen Prozessen
in der
Waferherstellung
misregistration between lithography processes in wafer fabrication
Fehlerort
in der
Bildebene
aberrated position in the image plane
Fehlersuche
in der
Anlage durchführen
trouble-shoot the system
Fenster
in der
Metallmaske
opening in the metal mask
Formtreue
in der
Strukturübertragung
fidelity in pattern transfer
Geradlinigkeit der Bewegung
in der
x- und y-Achse
straightness of travel along both x and y axes
gleichmäßige Beleuchtung
in der
Waferebene
uniform illumination at the wafer plane
Gleichmäßigkeit der Belichtung
in dem
Feld von 1 cm²
exposure uniformity across the 1 cm² field
gleichzeitiges Eintreffen der Daten in einem Punkt
arrival of data at one point at the same time
Herstellung von Retikeln als Zwischenschritt
in der
Maskenherstellung
generation of reticles as an intermediate step in producing masks
hoher Wiederholgrad
in der
Struktur
high degree of repetition in the pattern
in der
Basis gespeicherte Ladung
base-stored charge
in der
Bibliothek gespeicherte Standardschaltkreiselemente aufrufen
call up standard circuit elements stored in the library
in der
hierarchischen Struktur Tests auf immer höheren Ebenen durchführen
work upward through the hierarchy
in der
Logik der Zentraleinheit verteilt
scattered throughout the CPU logic
in der
Reaktionskammer
reactor pressure
in Dialogverkehr mit der Außenwelt treten
interact with the outside world
(stehen)
in däs
Hauptprogramm zurückspringen
return to the main routine
Inhalt
in der
angegebenen Adresse speichern
store contents at the specified address
innere Spannung
in der
Resistschicht
internal stress in the resist film
jedes Element einzeln zu dem entsprechenden Element
in der
vorher belichteten Struktur justieren
align each element individually to its corresponding element in the previously printed matrix
Kennlinie der Durchbruchspannung in Sperrichtung
reverse breakdown characteristic
Kontaktloch
in der
Montageplatte
in-board via
kreisförmiger Spalt
in der
Objektebene
circular object plane slit
Ladung
in der
Potentialmulde speichern
store charge in the potential well
Lage der Bondinseln
in den
Chipecken
location of the bond pads in the corners of a chip
Lawinenwirkung
in der
Kollektorsperrschicht
avalanche action in the collector junction
Leistungsgrenze
in der
Projektionslithografie
performance limit in projection lithography
logischer Fehler
in der
Programmierung
logical error in programming
μm Mikrolinienstrukturen
in der
Größenordnung von 1 pm
fine line geometries of the order of 1
Manipulieren
in der
Retikelebene
manipulation at the reticle plane
Maskenbewegung
in der
Kontaktstellung
mask movement in the contact position
mehrere wesentliche Konstruktionsbesonderheiten
in der
Anlage berücksichtigen
incorporate several features into the system
Minoritätsträgerspeicherung
in der
Basiszone
minority carrier storage in the base region
mit der Struktur auf der Vorderseite in Deckung bringen
register to the front side pattern
nach einer neuen Aufgabe
in der
Aufgabenbibliothek suchen
search for a new task in the task library
Originalvorlagen in zwanzigfacher Vergrößerung der endgültigen Bildgröße schneiden
cut artmasters at twenty times final image size
Plazierung der Bilder in Matrixform
placement of images in an array
Positionierung der Bilder in Matrixform
placement of images in an array
Richtigkeit der Justierung zwischen Retikeln in einem Satz
correctness of alignment between reticles in a set
Röntgenausgangsleistung
in der
Größenordnung von 100 mW/cm²
X-ray output power on the order of 100 microwatts per square centimetre
(Röntgenlithografie)
Scharfabbildung
in der
optischen Achse
on-axis in-focus image
scharfer Knick
in der
Kurve
abrupt break in the curve
schnelle Fortschritte in jede Richtung der IC Technik
rapid advances on all fronts of the integrated circuit technology
sich der theoretischen Grenze
in der
optischen Achse nähern
approach the theoretical limit on axis
Submikrometerauflösung
in der
Herstellung von höchstintegrierten Schaltkreisen
submicron resolution in the production of VLST circuits
tatsächlicher Koordinatenort jedes Elements
in der
Matrix
actual X-Y location of each element in the array
Technologie der Herstellung integrierter Schaltkreise in Silizium
silicon integrated circuit process technology
thermische Erzeugung
in der
Masse.
bulk thermal generation
Unterbrechung
in der
Energieversorgung
power outage
Unterschied
in der
Austrittsarbeit
work function difference
(z. B. eines Metalls und Halbleiters)
Verstärkungswirkung
in der
Kollektorsperrschicht
multiplication action in the collector junction
Wölbung
in der
Mitte
centre-point bow
Änderung
in der
Zusammensetzung
compositional change
Öffnung
in der
Maske
aperture in the mask
Öffnung
in der
Metallmaske
opening in the metal mask
Überdeckungsgenauigkeit
in der
Größenordnung von 125 nm
overlay accuracy of the order of 125 nm
Überleitung der Plasmachemie in ein Produktionsmittel für hochintegrierte Schaltkreise
transformation of plasma chemistry into a VLSI production tool
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