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Terms for subject Microelectronics containing in der | all forms | exact matches only | in specified order only
GermanEnglish
Abstand in der Strukturgap in the pattern
Anordnung der Daten in einem Satzarrangement of data in a record
Anweisung in der Auftragssprachejob-control Statement
Anwendung in der Produktionproduction floor application
aus der Entwicklung schnell in die Produktion übergeleitet werdenrush from test bench to production line
aus der Entwicklungsphase in den Produktionsbetrieb überführentake from laboratory to production line operation
Ausdehnung der isolierenden Sperrschicht in das Substratextension of the insulating depletion layer into the substrate
Ausdehnung der VLSI-Technik in den Submikrometerbereichextension of VLSI technology into submicrometre geometries
Befehle in der halben Zeit ausführenexecute instructions in half the time
das Bild zur Struktur auf der Maske geometrisch in Beziehung setzenrelate the image to pattern on the mask
das Resist in direkten Kontakt mit der Maske bringenbring the resist into direct contact with the mask
das Resist in einem Abstand von wenigen Mikrometern von der Maske positionierenposition the resist within a few micrometres of the mask
Datenpunkt in der Matrixdata point in the array
Defekt in der Anlagemalfunction in the equipment
Defektretikel im Step-und-Repeat-Verfahren in willkürlich ausgewählte Plätze auf der Maske abbildenstep defect reticles into randomly selected locations on the mask
den Inhalt der Adresse in den Eingangsbus sendensend out the contents of the address onto the input bus
den normalen Betrieb in der Unterbrechungsstelle wiederaufnehmenresume ordinary operation from the point of the interrupt
den sicheren Sitz der Leiterplatte in der Steckverbindung gewährleistenkeep the board securely seated in the connector
den Strahl in der Mitte eines Feldes positionierenposition the beam at the centre of a field
den Wert in der kürzestmöglichen Zeit zurückführenreturn the value in the shortest possible time
die Entwicklung der Strukturen bis in den 1-μm-Bereich vorantreibenpush geometries down to 1 μm area
die Maske in der endgültigen Größe herstellenfabricate the mask at final size
die Operation in der Zeit des anliegenden Belegtsignals aussetzensuspend operation until the busy signal disappears
die Scheibe in die Haltevorrichtung mit der vorderen Oberfläche nach oben einsetzenload the slice in the fixture with the front surface up
die Scheibe um ihren Mittelpunkt in der Scheibenebene drehenrotate the slice about its centre in the slice plane
die vollständige Struktur für alle Chips in natürlicher Größe der endgültigen Strukturelemente enthaltencontain the complete pattern for all dice at the actual size of the final features (1 ×)
Diffusion von der Vorderseite des Wafers in die Schichtdiffusion from front side of wafer into film
Diffusionsvermögen von Elektronen und Defektelektronen in der Basisdiffusivity of electrons and holes in the base
Durchbiegung in der Mittecentre-point bow
Ebene in der Höhe der Oberseite des Substratsplane at the level of the topside of the substrate
ein 4 mm breites Bild des Spalts in der Maskenebene erzeugencreate a 4.0-mm wide image of the slit at the mask plane
Einsetzen der Kassetten in die Ladekammerinsertion of cassettes into the load chamber
Elektronenübergang in der Schaleelectronic transition in the shell
Elementgröße in der Einzelbildstrukturfeature dimension in the die pattern
Fehler durch Störung in der Anlagehang error
Fehler in der Anlagemalfunction in the equipment
Fehler in der Tischpositionierung kompensierencompensate for errors in stage position
Fehler in der Überdeckung zwischen den Strukturenpattern misregistration
fehlerhafte Justierung zwischen lithografischen Prozessen in der Waferherstellungmisregistration between lithography processes in wafer fabrication
Fehlerort in der Bildebeneaberrated position in the image plane
Fehlersuche in der Anlage durchführentrouble-shoot the system
Fenster in der Metallmaskeopening in the metal mask
Formtreue in der Strukturübertragungfidelity in pattern transfer
Geradlinigkeit der Bewegung in der x- und y-Achsestraightness of travel along both x and y axes
gleichmäßige Beleuchtung in der Waferebeneuniform illumination at the wafer plane
Gleichmäßigkeit der Belichtung in dem Feld von 1 cm²exposure uniformity across the 1 cm² field
gleichzeitiges Eintreffen der Daten in einem Punktarrival of data at one point at the same time
Herstellung von Retikeln als Zwischenschritt in der Maskenherstellunggeneration of reticles as an intermediate step in producing masks
hoher Wiederholgrad in der Strukturhigh degree of repetition in the pattern
in der Basis gespeicherte Ladungbase-stored charge
in der Bibliothek gespeicherte Standardschaltkreiselemente aufrufencall up standard circuit elements stored in the library
in der hierarchischen Struktur Tests auf immer höheren Ebenen durchführenwork upward through the hierarchy
in der Logik der Zentraleinheit verteiltscattered throughout the CPU logic
in der Reaktionskammerreactor pressure
in Dialogverkehr mit der Außenwelt treteninteract with the outside world (stehen)
in däs Hauptprogramm zurückspringenreturn to the main routine
Inhalt in der angegebenen Adresse speichernstore contents at the specified address
innere Spannung in der Resistschichtinternal stress in the resist film
jedes Element einzeln zu dem entsprechenden Element in der vorher belichteten Struktur justierenalign each element individually to its corresponding element in the previously printed matrix
Kennlinie der Durchbruchspannung in Sperrichtungreverse breakdown characteristic
Kontaktloch in der Montageplattein-board via
kreisförmiger Spalt in der Objektebenecircular object plane slit
Ladung in der Potentialmulde speichernstore charge in the potential well
Lage der Bondinseln in den Chipeckenlocation of the bond pads in the corners of a chip
Lawinenwirkung in der Kollektorsperrschichtavalanche action in the collector junction
Leistungsgrenze in der Projektionslithografieperformance limit in projection lithography
logischer Fehler in der Programmierunglogical error in programming
μm Mikrolinienstrukturen in der Größenordnung von 1 pmfine line geometries of the order of 1
Manipulieren in der Retikelebenemanipulation at the reticle plane
Maskenbewegung in der Kontaktstellungmask movement in the contact position
mehrere wesentliche Konstruktionsbesonderheiten in der Anlage berücksichtigenincorporate several features into the system
Minoritätsträgerspeicherung in der Basiszoneminority carrier storage in the base region
mit der Struktur auf der Vorderseite in Deckung bringenregister to the front side pattern
nach einer neuen Aufgabe in der Aufgabenbibliothek suchensearch for a new task in the task library
Originalvorlagen in zwanzigfacher Vergrößerung der endgültigen Bildgröße schneidencut artmasters at twenty times final image size
Plazierung der Bilder in Matrixformplacement of images in an array
Positionierung der Bilder in Matrixformplacement of images in an array
Richtigkeit der Justierung zwischen Retikeln in einem Satzcorrectness of alignment between reticles in a set
Röntgenausgangsleistung in der Größenordnung von 100 mW/cm²X-ray output power on the order of 100 microwatts per square centimetre (Röntgenlithografie)
Scharfabbildung in der optischen Achseon-axis in-focus image
scharfer Knick in der Kurveabrupt break in the curve
schnelle Fortschritte in jede Richtung der IC Technikrapid advances on all fronts of the integrated circuit technology
sich der theoretischen Grenze in der optischen Achse nähernapproach the theoretical limit on axis
Submikrometerauflösung in der Herstellung von höchstintegrierten Schaltkreisensubmicron resolution in the production of VLST circuits
tatsächlicher Koordinatenort jedes Elements in der Matrixactual X-Y location of each element in the array
Technologie der Herstellung integrierter Schaltkreise in Siliziumsilicon integrated circuit process technology
thermische Erzeugung in der Masse.bulk thermal generation
Unterbrechung in der Energieversorgungpower outage
Unterschied in der Austrittsarbeitwork function difference (z. B. eines Metalls und Halbleiters)
Verstärkungswirkung in der Kollektorsperrschichtmultiplication action in the collector junction
Wölbung in der Mittecentre-point bow
Änderung in der Zusammensetzungcompositional change
Öffnung in der Maskeaperture in the mask
Öffnung in der Metallmaskeopening in the metal mask
Überdeckungsgenauigkeit in der Größenordnung von 125 nmoverlay accuracy of the order of 125 nm
Überleitung der Plasmachemie in ein Produktionsmittel für hochintegrierte Schaltkreisetransformation of plasma chemistry into a VLSI production tool