Terms for subject Microelectronics containing химическое осаждение из газовой фазы

Russian	German
метод химического осаждения из газовой фазы	Chemical Vapour Deposition
метод химического осаждения из газовой фазы	chemische Dampfphasenabscheidung
метод химического осаждения из газовой фазы	chemische Dampf phasenabscheidung
метод химического осаждения из газовой фазы	CVD-Verfahren
метод химического осаждения из газовой фазы	CVD
метод химического осаждения из газовой фазы с плазменным стимулированием	Plasma-CVD-Technik
модифицированный метод химического осаждения из газовой фазы	modifiziertes CVD-Verfahren
модифицированный метод химического осаждения из газовой фазы	MCVD-Verfahren
модифицированный метод химического осаждения из газовой фазы при избыточном давлении	Überdruck-MCVD-Verfahren
установка химического осаждения из газовой фазы	CVD-System
установка химического осаждения из газовой фазы	CVD-Anlage
химическое осаждение из газовой фазы	Foto-CVD
химическое осаждение из газовой фазы	chemische Dampfabscheidung
химическое осаждение из газовой фазы	CVD
химическое осаждение из газовой фазы в вакууме	Vakuum-CVD
химическое осаждение из газовой фазы в вакууме	V-CVD
химическое осаждение из газовой фазы при низком давлении	Low-Pressure CVD
химическое осаждение из газовой фазы при низком давлении	LPCVD
химическое осаждение из газовой фазы с плазменным стимулированием	plasmaunterstützte
химическое осаждение из газовой фазы с плазменным стимулированием	plasmagestützte Dampfphasenbeschichtung Dampfphase
химическое осаждение из газовой фазы с плазменным стимулированием	plasmagestützte Dampfphasenbeschichtung
химическое осаждение из газовой фазы с плазменным стимулированием	plasmaunterstützte CVD
химическое осаждение из газовой фазы с плазменным стимулированием	PCVD-Prozess