| Russian | German |
| кристалл СБИС, сформированный на целой полупроводниковой пластине | WSI-Chip |
| логическая схема, сформированная в кристалле | Chipschaltung |
| логические схемы, сформированные в кристалле | interne Chiplogik |
| не имеющий сформированных структур | unstrukturiert |
| область, сформированная методом ионной имплантации | Ionenimplantationszone |
| полупроводниковая пластина со сформированными структурами ИС | strukturierter Wafer |
| подложка со сформированными структурами | strukturiertes Substrat |
| разводка, сформированная травлением | geätzte Verdrahtung |
| рисунок, сформированный на слое хрома | Chromschichtstruktur |
| СБИС, сформированная на целой полупроводниковой пластине | WSI-Schaltung |
| СБИС, сформированная на целой полупроводниковой пластине | Ganzscheibenschaltkreis |
| совокупность интегральных структур, сформированных на полупроводниковой пластине | Waferverband |
| сторона сформированных элементов | Systemseite (структуры ИС) |
| структура, сформированная в слое резиста | Resiststruktur |
| структура, сформированная в слое фоторезиста | Resiststruktur |
| сформированная на целой полупроводниковой пластине | Ganzscheibenschaltkreis |
| сформированный в кристалле | chipintern (о компонентах ИС) |
| технология МОП БИС с высокоомными стоками и истоками, сформированными двойной ионной имплантацией | Double-Implanted Lightly-Doped Drain/source process |
| фотошаблон со сформированным изображением | strukturierte Fotomaske |
| щелевая ячейка со сформированным на её стенках транзистором | Trenchtransistorzelle |
