| Russian | English |
| автоэмиссионная среда, реализуемая по методу газофазного осаждения | CVD technology-realised autoemission medium |
| аксиальное осаждение из паровой фазы | axial vapor deposition |
| алмаз, выращенный методом химического осаждения из газовой фазы | CVD grown diamond |
| алмаз, выращенный методом химического осаждения из газовой фазы | chemical vapor deposition grown diamond |
| алмаз, выращенный методом химического осаждения из паровой фазы | CVD grown diamond |
| алмаз, выращенный методом химического осаждения из паровой фазы | chemical vapor deposition grown diamond |
| алмазная плёнка, полученная по технологии плазмостимулированного газофазного осаждения | PECVD-produced diamond film |
| анодное осаждение | anodic deposition |
| атомное осаждение | atomic deposition |
| атомное осаждение в магнитном поле | magnetic forces-assisted atomic deposition |
| атомно-слоевое осаждение | atomic layer deposition |
| атомно-слоёвое осаждение | atomic layer deposition |
| бездиффузионное осаждение | diffusionless deposition |
| внешнее осаждение из паровой фазы | outside vapor deposition |
| внутриобъёмное осаждение из паровой фазы | inside vapor deposition |
| выращенный методом газофазного химического осаждения | CVD-grown (о материале) |
| выращенный методом модифицированного газофазного химического осаждения | MCVD-grown (о материале) |
| выращенный методом модифицированного химического осаждения из газовой фазы | MCVD-grown |
| выращенный методом модифицированного химического осаждения из газовой фазы на основе механизма "пар-жидкость-кристалл" | MCVD-VLS-grown |
| выращенный методом модифицированного химического осаждения из паровой фазы | MCVD-grown |
| выращенный методом модифицированного химического осаждения из паровой фазы на основе механизма "пар-жидкость-кристалл" | MCVD-VLS-grown |
| выращенный методом плазмостимулированного газофазного осаждения | PECVD-grown |
| выращенный методом плазмохимического газофазного осаждения | PECVD-grown |
| выращенный методом химического осаждения из газовой фазы | CVD-grown |
| выращенный методом химического осаждения из газовой фазы на основе механизма "пар-жидкость-кристалл" | CVD-VLS-grown |
| выращенный методом химического осаждения из паров металлоорганических соединений | MOCVD-grown (о материале) |
| выращенный методом химического осаждения из паров металлоорганических соединений при пониженном давлении | LPMOCVD-grown (о материале) |
| выращенный методом химического осаждения из паровой фазы | CVD-grown |
| выращенный методом химического осаждения из паровой фазы на основе механизма "пар-жидкость-кристалл" | CVD-VLS-grown |
| высокоизбирательное осаждение | highly-selective deposition |
| газ в технологии газофазного химического осаждения | CVD gas |
| газ в технологии газофазного химического осаждения | chemical vapor deposition gas |
| газ в технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD gas |
| газ в технологии химического осаждения из газовой фазы | chemical vapor deposition gas |
| газ в технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD gas |
| газ в технологии химического осаждения из паровой фазы | chemical vapor deposition gas |
| газоструйное осаждение | gas-jet deposition |
| газофазное осаждение | gas-phase deposition (MichaelBurov) |
| газофазное осаждение | vapor deposition |
| газофазное осаждение | GPD (MichaelBurov) |
| газофазное осаждение, инициированное фокусированным ионным пучком | FIB-initiated chemical vapor deposition |
| газофазное осаждение, инициированное фокусированным ионным пучком | focused ion beam-initiated chemical vapor deposition |
| газофазное осаждение, стимулированное ионным пучком | ion beam-enhanced chemical vapor deposition |
| газофазное осаждение, стимулированное электронным пучком | electron beam-enhanced chemical vapor deposition |
| газофазное химическое осаждение | chemical vapor deposition |
| газофазное химическое осаждение многослойных УНТ | MWCNTs chemical vapor deposition |
| газофазное химическое осаждение многослойных УНТ | MWNTs chemical vapor deposition |
| газофазное химическое осаждение многослойных УНТ с применением многослойных металлических катализаторов | multilayered metal catalysts-used MWNTs chemical vapor deposition |
| газофазное химическое осаждение многослойных УНТ с применением многослойных металлических катализаторов | multilayered metal catalysts-used MWCNTs chemical vapor deposition |
| газофазное химическое осаждение с катализатором | catalyst chemical vapor deposition |
| газофазное химическое осаждение УНТ | CNTs chemical vapor deposition |
| газофазное химическое осаждение УНТ | carbon nanotubes chemical vapor deposition |
| гетероструктура, синтезированная методом химического осаждения из газовой фазы | CVD-synthesized heterostructure |
| гетероструктура, синтезированная методом химического осаждения из газовой фазы | chemical vapor deposition-synthesized heterostructure |
| гетероструктура, синтезированная методом химического осаждения из паровой фазы | CVD-synthesized heterostructure |
| гетероструктура, синтезированная методом химического осаждения из паровой фазы | chemical vapor deposition-synthesized heterostructure |
| датчик на основе нанонити, выращенный методом химического осаждения из газовой фазы | CVD-grown nanowire sensor |
| датчик на основе нанонити, выращенный методом химического осаждения из паровой фазы | CVD-grown nanowire sensor |
| диффузионное осаждение | diffusion deposition |
| диэлектрофоретическое осаждение | dielectrophoretic deposition |
| зеркало с кремнийорганическим покрытием методом газофазного осаждения | vaporized silicon-coated mirror |
| изотермическое осаждение | isothermal deposition |
| ионное осаждение | ion deposition |
| ионное осаждение | ion-assisted deposition |
| ионно-плазменное осаждение | ionic-plasma deposition |
| камера установки для синтеза газофазным химическим осаждением | CVD synthesis chamber |
| камера установки для синтеза газофазным химическим осаждением | chemical vapor deposition synthesis chamber |
| камера установки для синтеза плазмостимулированным газофазным осаждением | PECVD chamber |
| камера установки для синтеза плазмохимическим газофазным осаждением | PECVD chamber |
| камера установки для синтеза химическим осаждением из газовой фазы | CVD synthesis chamber |
| камера установки для синтеза химическим осаждением из газовой фазы | chemical vapor deposition synthesis chamber |
| камера установки для синтеза химическим осаждением из паровой фазы | CVD synthesis chamber |
| камера установки для синтеза химическим осаждением из паровой фазы | chemical vapor deposition synthesis chamber |
| каталитический процесс химического газофазного осаждения | catalytic CVD process |
| каталитический процесс химического осаждения из газовой фазы | catalytic CVD process |
| каталитический процесс химического осаждения из паровой фазы | catalytic CVD process |
| каталитическое газофазное химическое осаждение | catalytic chemical vapor deposition |
| каталитическое химическое осаждение из газовой фазы | catalytic chemical vapor deposition |
| каталитическое химическое осаждение из паровой фазы | catalytic chemical vapor deposition |
| катод, выращенный методом химического осаждения из газовой фазы | CVD-grown cathode |
| катод, выращенный методом химического осаждения из паровой фазы | CVD-grown cathode |
| катодное осаждение | cathodic deposition |
| конденсатор, изготовленный методом вакуумного осаждения | vacuum-deposited capacitor |
| кремниевая нанонить, выращенная методом химического осаждения из газовой фазы | CVD-grown silicon nanowire |
| кремниевая нанонить, выращенная методом химического осаждения из газовой фазы | chemical vapor deposition-grown silicon nanowire |
| кремниевая нанонить, выращенная методом химического осаждения из паровой фазы | CVD-grown silicon nanowire |
| кремниевая нанонить, выращенная методом химического осаждения из паровой фазы | chemical vapor deposition-grown silicon nanowire |
| кремнийорганическое покрытие газофазным осаждением | vaporized silicone coating |
| КТ, полученные методом газофазного химического осаждения | CVD-deposited quantum dots |
| КТ, полученные методом химического осаждения из газовой фазы | CVD-deposited quantum dots |
| КТ, полученные методом химического осаждения из паровой фазы | CVD-deposited quantum dots |
| легирование НТ при выращивании методом химического осаждения из газовой фазы | doping of nanotubes during CVD growth |
| легирование НТ при выращивании методом химического осаждения из паровой фазы | doping of nanotubes during CVD growth |
| локальное осаждение | in situ deposition |
| массив ориентированных многослойных УНТ синтезированный методом газофазного химического осаждения | CVD-synthesized aligned MWNT array |
| массив ориентированных многослойных УНТ, синтезированный методом химического осаждения из газовой фазы | CVD-synthesized aligned MWNT array |
| массив ориентированных многослойных УНТ, синтезированный методом химического осаждения из паровой фазы | CVD-synthesized aligned MWNT array |
| материал, очищенный по технологии химического осаждения из газовой фазы | chemical vapor deposition technology-cleaned material |
| материал, очищенный по технологии химического осаждения из паровой фазы | chemical vapor deposition technology-cleaned material |
| материал, синтезированный методом химического осаждения из газовой фазы | CVD-synthesized material |
| материал, синтезированный методом химического осаждения из паровой фазы | CVD-synthesized material |
| материал, синтезированный по методу плазмостимулированного газофазного осаждения | plasma-enhanced chemical vapor deposition-synthesized material |
| материал, синтезированный по методу плазмостимулированного газофазного осаждения | PECVD-synthesized material |
| метод атомно-слоевого осаждения | ALD-method |
| метод атомно-слоёвого осаждения | ALD-method |
| метод газофазного химического осаждения | CVD-method |
| метод модифицированного газофазного химического осаждения | MCVD-method |
| метод модифицированного химического осаждения из газовой мазы | MCVD-method |
| метод модифицированного химического осаждения из газовой фазы | MCVD-method |
| метод модифицированного химического осаждения из паровой мазы | MCVD-method |
| метод модифицированного химического осаждения из паровой фазы | MCVD-method |
| метод осаждения из плазмы | plasma deposition team |
| метод осаждения плёнки | film deposition team |
| метод плазмостимулированного газофазного осаждения | PECVD-method |
| метод плазмостимулированного газофазного осаждения | plasma-enhanced chemical vapor deposition method |
| метод плазмостимулированного газофазного осаждения | PECVD method |
| метод плазмохимического газофазного осаждения | PECVD-method |
| метод плазмохимического газофазного осаждения | plasma-enhanced chemical vapor deposition method |
| метод плазмохимического газофазного осаждения | PECVD method |
| метод физического осаждения из газовой фазы | PVD-method |
| метод физического осаждения из газовой фазы | physical vapor deposition method |
| метод физического осаждения из газовой фазы | PVD method |
| метод физического осаждения из газовой фазы испарением в электрической дуге | arc-PVD method |
| метод физического осаждения из газовой фазы испарением в электрической дуге | arc-PVD-method |
| метод физического осаждения из газовой фазы испарением в электрической дуге | arc physical vapor deposition method |
| метод физического осаждения из газовой фазы термическим испарением | TVD-method |
| метод физического осаждения из газовой фазы термическим испарением | thermal vapor deposition method |
| метод физического осаждения из газовой фазы термическим испарением | TVD method |
| метод физического осаждения из газовой фазы электронно-лучевым испарением | EBVD-method |
| метод физического осаждения из газовой фазы электронно-лучевым испарением | e-beam vapor deposition method |
| метод физического осаждения из газовой фазы электронно-лучевым испарением | EBVD method |
| метод физического осаждения из жидкой фазы | PLD-method |
| метод химического осаждения из газовой мазы | CVD-method |
| метод химического осаждения из газовой фазы | CVD-method |
| метод химического осаждения из газовой фазы | chemical vapor deposition method |
| метод химического осаждения из газовой фазы | CVD method |
| метод химического осаждения из паров металлоорганических соединений | MOCVD-method |
| метод химического осаждения из паров металлоорганических соединений | MOCVD method |
| метод химического осаждения из паров металлоорганических соединений | metalorganic chemical vapor deposition method |
| метод химического осаждения из паров металлоорганических соединений при пониженном давлении | LPMOCVD-method |
| метод химического осаждения из паровой мазы | CVD-method |
| метод химического осаждения из паровой фазы | CVD-method |
| метод химического осаждения из паровой фазы | CVD method |
| метод химического осаждения из паровой фазы | chemical vapor deposition method |
| механизм осаждения | deposition mechanism |
| микроволновое плазмохимическое газофазное осаждение | microwave plasma-assisted chemical vapor deposition |
| многократное осаждение | multi-step deposition |
| молекулярно-пучковое осаждение | molecular beam deposition |
| монослой, образованный по технологии атомно-слоевого осаждения | ALD-technology-formed monolayer |
| монослой, образованный по технологии атомно-слоевого осаждения | atomic layer deposition technology-formed monolayer |
| монослой, образованный по технологии атомно-слоёвого осаждения | atomic layer deposition technology-formed monolayer |
| монослой, образованный по технологии атомно-слоёвого осаждения | ALD-technology-formed monolayer |
| нанокристалл, выращенный методом газофазного химического осаждения | CVD-grown nanocrystal |
| нанокристалл, выращенный методом химического осаждения из газовой фазы | CVD-grown nanocrystal |
| нанокристалл, выращенный методом химического осаждения из паровой фазы | CVD-grown nanocrystal |
| нанокристалл, полученный методом химического осаждения | chemical deposited nanocrystal |
| нанокристаллическая алмазная плёнка, изготовленная химическим осаждением из газовой фазы | CVD-fabricated nanocrystalline diamond film |
| нанокристаллическая алмазная плёнка, изготовленная химическим осаждением из паровой фазы | CVD-fabricated nanocrystalline diamond film |
| нанокристаллическая алмазная плёнка, полученная химическим осаждением из газовой фазы | chemical vapor deposition-produced polycrystalline diamond film |
| нанокристаллическая алмазная плёнка, полученная химическим осаждением из газовой фазы | chemical vapor deposition-produced nanocrystalline diamond film |
| нанокристаллическая алмазная плёнка, полученная химическим осаждением из паровой фазы | chemical vapor deposition-produced polycrystalline diamond film |
| нанокристаллическая алмазная плёнка, полученная химическим осаждением из паровой фазы | chemical vapor deposition-produced nanocrystalline diamond film |
| наноламинат, изготовленный методом газофазного химического осаждения | CVD-produced nanolaminate |
| наноламинат, изготовленный методом химического осаждения из газовой фазы | CVD-produced nanolaminate |
| наноламинат, изготовленный методом химического осаждения из паровой фазы | CVD-produced nanolaminate |
| нанопленка, изготовленная по технологии атомного-силового осаждения | atomic layer deposition technology-produced nanofilm |
| нанопленка, изготовленная по технологии атомного-силового осаждения | ALD technology-produced nanofilm |
| наноплёнка, изготовленная по технологии атомного-силового осаждения | atomic layer deposition technology-produced nanofilm |
| наноплёнка, изготовленная по технологии атомного-силового осаждения | ALD technology-produced nanofilm |
| нанопокрытие, полученное химическим осаждением из газовой фазы | chemically vapor deposited nanocoating |
| нанопокрытие, полученное химическим осаждением из паровой фазы | chemically vapor deposited nanocoating |
| нанопроизводство газофазным химическим осаждением | CVD nanofabrication |
| нанопроизводство газофазным химическим осаждением | chemical vapor deposition nanofabrication |
| нанопроизводство методом прямого осаждения | direct deposition nanofabrication |
| нанопроизводство методом физического осаждения из газовой фазы | PVD nanofabrication |
| нанопроизводство методом физического осаждения из газовой фазы | PVD-nanofabrication |
| нанопроизводство методом физического осаждения из газовой фазы | physical vapor deposition nanofabrication |
| нанопроизводство по технологии химического осаждения из паровой фазы | chemical vapor deposition nanofabrication |
| наноструктура, полученная методом физического осаждения из газовой фазы | PVD-fabricated nanostructure |
| наноструктура, полученная методом физического осаждения из газовой фазы | physical vapor deposited nanostructure |
| наноструктура, полученная по технологии атомно-слоевого осаждения | atomic layer deposition-fabricated nanostructure |
| наноструктура, полученная по технологии атомно-слоевого осаждения | ALD-fabricated nanostructure |
| наноструктура, полученная по технологии атомно-слоёвого осаждения | atomic layer deposition-fabricated nanostructure |
| наноструктура, полученная по технологии атомно-слоёвого осаждения | ALD-fabricated nanostructure |
| нанотехнология на основе метода атомно-слоевого осаждения | ALD nanotechnology |
| нанотехнология на основе метода атомно-слоевого осаждения | atomic layer deposition nanotechnology |
| нанотехнология на основе метода атомно-слоевого осаждения | atomic layer deposition-based nanotechnology |
| нанотехнология на основе метода атомно-слоевого осаждения | ALD-based nanotechnology |
| нанотехнология на основе метода атомно-слоёвого осаждения | ALD nanotechnology |
| нанотехнология на основе метода атомно-слоёвого осаждения | atomic layer deposition-based nanotechnology |
| нанотехнология на основе метода атомно-слоёвого осаждения | atomic layer deposition nanotechnology |
| нанотехнология на основе метода атомно-слоёвого осаждения | ALD-based nanotechnology |
| нанотехнология по методу плазмостимулированного газофазного осаждения | plasma-enhanced chemical vapor deposition-based nanotechnology |
| нанотехнология по методу плазмостимулированного газофазного осаждения | PECVD-based nanotechnology |
| нанотехнология по методу химического осаждения из газовой фазы | CVD nanotechnology |
| нанотехнология по методу химического осаждения из газовой фазы | chemically vapor deposition nanotechnology |
| нанотехнология по методу химического осаждения из паровой фазы | CVD nanotechnology |
| нанотехнология по методу химического осаждения из паровой фазы | chemically vapor deposition nanotechnology |
| нанотехнология по методу химического осаждения из растворов металлоорганических соединений | MOCSD-based nanotechnology |
| нанотехнология на основе метода химического осаждения из газовой фазы при атмосферном давлении | APCVD nanotechnology |
| нанотехнология на основе метода химического осаждения из газовой фазы при атмосферном давлении | atmospheric pressure chemical vapor deposition-based nanotechnology |
| нанотехнология на основе метода химического осаждения из газовой фазы при атмосферном давлении | atmospheric pressure chemical vapor deposition nanotechnology |
| нанотехнология на основе метода химического осаждения из газовой фазы при атмосферном давлении | APCVD-based nanotechnology |
| нанотехнология по методу химического осаждения из паров металлоорганических соединений | MOCVD-based nanotechnology |
| нанотехнология по методу химического осаждения из паров металлоорганических соединений | MOCVD nanotechnology |
| нанотехнология по методу химического осаждения из паров металлоорганических соединений | metalorganic chemical vapor deposition-based nanotechnology |
| нанотехнология на основе метода химического осаждения из паровой фазы при атмосферном давлении | atmospheric pressure chemical vapor deposition nanotechnology |
| нанотехнология на основе метода химического осаждения из паровой фазы при атмосферном давлении | APCVD nanotechnology |
| нанотехнология на основе метода химического осаждения из паровой фазы при атмосферном давлении | atmospheric pressure chemical vapor deposition-based nanotechnology |
| нанотехнология на основе метода химического осаждения из паровой фазы при атмосферном давлении | APCVD-based nanotechnology |
| нанотехнология химического осаждения из растворов металлоорганических соединений | MOCSD-based nanotechnology |
| нанотехнология по методу химического осаждения из растворов металлоорганических соединений | metalorganic chemical solution deposition -based nanotechnology |
| наноуглерод, полученный методом плазмостимулированного газофазного осаждения | plasma-enhanced chemical vapor deposition nanocarbon |
| наноуглерод, полученный методом плазмостимулированного газофазного осаждения | PECVD nanocarbon |
| низкотемпературное осаждение | low-temperature deposition |
| нитевидные кристаллы, выращенные методом осаждения из газовой фазы | CVD-produced whiskers |
| нитевидные кристаллы, выращенные методом осаждения из паровой фазы | CVD-produced whiskers |
| НТ, выращенные в диффузионной плазме по технологии химического осаждения из газовой фазы | diffusion plasma CVD-grown nanotubes |
| НТ, выращенные в диффузионной плазме по технологии химического осаждения из паровой фазы | diffusion plasma CVD-grown nanotubes |
| НТ, выращенные в плазме по технологии химического осаждения из газовой фазы | plasma CVD-grown nanotubes |
| НТ, выращенные в плазме по технологии химического осаждения из паровой фазы | plasma CVD-grown nanotubes |
| НТ, выращенные методом химического осаждения из газовой фазы | nanotubes grown by CVD |
| НТ, выращенные методом химического осаждения из паровой фазы | nanotubes grown by CVD |
| НТ, выращенные по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-produced nanotubes |
| НТ, выращенные по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-grown nanotubes |
| НТ, выращенные по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD-produced nanotubes |
| НТ, выращенные по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD-grown nanotubes |
| НТ, изготовленные по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-produced nanotubes |
| НТ, изготовленные по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-grown nanotubes |
| НТ, изготовленные по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD-produced nanotubes |
| НТ, изготовленные по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD-grown nanotubes |
| НТ, синтезированные по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-synthesized nanotubes |
| НТ, синтезированные по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-technology-synthesized nanotubes |
| НТ, синтезированные по технологии химического осаждения слоев материала из газовой фазы | chemical vapor deposition-synthesized nanotubes |
| НТ, синтезированные по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD-synthesized nanotubes |
| НТ, синтезированные по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD-technology-synthesized nanotubes |
| НТ, синтезированные по технологии химического осаждения слоев материала из паровой фазы | chemical vapor deposition-synthesized nanotubes |
| обработка методом газофазного химического осаждения | CVP-based treatment |
| обработка методом газофазного химического осаждения | chemical vapor deposition-based treatment |
| обработка методом послойного осаждения материала | layer-by-layer deposition-based treatment |
| обработка методом химического осаждения из газовой фазы | CVP-based treatment |
| обработка методом химического осаждения из газовой фазы | chemical vapor deposition-based treatment |
| обработка методом химического осаждения из паровой фазы | CVP-based treatment |
| обработка методом химического осаждения из паровой фазы | chemical vapor deposition-based treatment |
| оптическая система с кремнийорганическим покрытием по технологии газофазного осаждения | vaporized silicon coating optics |
| осаждение атомных слоев | atomic layer deposition (Халеев) |
| осаждение без фрагментации | deposition without fragmentation |
| осаждение в сверхвысоком вакууме | ultrahigh vacuum deposition |
| осаждение в сверхвысоком вакууме | UHV deposition |
| осаждение вещества из газовой фазы | vapor plating |
| осаждение вещества из паровой фазы | vapor plating |
| осаждение из плазмы | plasma deposition |
| осаждение из плазмы | plasma-assisted deposition |
| осаждение, индуцированное электронным пучком | electron-beam-induced deposition |
| осаждение, индуцированное электронным пучком | e-beam-induced deposition |
| осаждение, инициированное фокусированным ионным пучком | FIB-initiated deposition |
| осаждение, инициированное фокусированным ионным пучком | focused ion beam-initiated deposition |
| осаждение ионизированным кластерным пучком | ICB deposition |
| осаждение ионизированным кластерным пучком | ionized cluster beam deposition |
| осаждение ионным пучком | ion beam-induced deposition |
| осаждение ионным пучком | ion beam deposition |
| осаждение кластерным пучком | cluster beam deposition |
| осаждение кластеров | cluster deposition |
| осаждение материала | material deposition |
| осаждение металлоксидных плёнок | metal-oxide films deposition |
| осаждение методом напыления | sputtering deposition |
| осаждение методом напыления | sputter deposition |
| осаждение методом электронно-лучевого испарения | e-beam vapor deposition |
| осаждение методом электронно-лучевого испарения | electron beam vapor deposition |
| осаждение методом электронно-лучевого испарения | e-beam evaporation deposition |
| осаждение модифицированного покрытия | modified coating deposition |
| осаждение на боковую стенку | sidewall deposition |
| осаждение "на месте" | in situ deposition |
| осаждение нанокластеров | nanocluster deposition |
| осаждение нанокластеров углерода | carbon nanocluster deposition |
| осаждение нанокристаллических алмазов | nanocrystalline diamond deposition |
| осаждение нанокристаллов | nanocrystals deposition |
| осаждение наноматериала | nanoscale material deposition |
| осаждение неметаллических наноструктур на биотемплате | nonmetallic biotemplated nanostructures deposition |
| осаждение низкоэнергетическим кластерным пучком | low-energy cluster beam deposition |
| осаждение НЧ | nanoparticle precipitation |
| осаждение оксидов металлов | metal oxide deposition |
| осаждение по механизму пар-жидкость-кристалл | VLS deposition |
| осаждение по механизму пар-жидкость-кристалл | vapor-liquid-solid deposition |
| осаждение по механизму пар-кристалл | vapor-solid deposition |
| осаждение покрытия | coating deposition |
| осаждение при высоком давлении | high-pressure deposition |
| осаждение при наклонном падении | off-normal incidence deposition |
| осаждение при наклонном падении | oblique incidence deposition |
| осаждение при нормальном падении | normal incidence deposition |
| осаждение при падении под малым углом | grazing incidence deposition |
| осаждение при почти нормальном падении | near-normal incidence deposition |
| осаждение при скользящем падении | grazing incidence deposition |
| осаждение при угле скольжения | glancing angle deposition (между осаждаемым материалом и поверхностью) |
| осаждение растворителя | solvent deposition |
| осаждение из паровой фазы с источником критической жидкости | supercritical fluid deposition |
| осаждение с применением ВЧ-плазмы | high-frequency plasma-assisted deposition |
| осаждение с применением ВЧ-плазмы | HF plasma-assisted deposition |
| осаждение с применением высокочастотной плазмы | high-frequency plasma-assisted deposition |
| осаждение с применением высокочастотной плазмы | HF plasma-assisted deposition |
| осаждение слоя | layer deposition (напр., покрытия) |
| осаждение, стимулированное ионным пучком | ion beam-enhanced deposition |
| осаждение, стимулированное электронным пучком | electron beam-enhanced deposition |
| осаждение термическим испарением | thermal vapor deposition |
| осаждение тефлоноподобных плёнок | teflon-like film deposition |
| осаждение фокусированным электронным пучком | focused electron deposition |
| осаждение частиц золота | gold nanoparticles deposition |
| осаждение электронным пучком | electron beam deposition |
| очистка материала по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-technology cleaning |
| очистка материала по технологии химического осаждения из газовой фазы | chemical vapor deposition technology cleaning |
| очистка материала по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD-technology cleaning |
| очистка материала по технологии химического осаждения из паровой фазы | chemical vapor deposition technology cleaning |
| переход, выращенный методом газофазного химического осаждения | CVD-grown junction |
| переход, выращенный методом химического осаждения из газовой фазы | CVD-grown junction |
| переход, выращенный методом химического осаждения из паровой фазы | CVD-grown junction |
| печатная схема, полученная методом химического осаждения | chemically-deposited printed circuit |
| плазменное осаждение | plasma-assisted deposition |
| плазменное осаждение из газовой фазы | plasma-assisted vapor deposition |
| плазменное осаждение из паровой фазы | plasma-assisted vapor deposition |
| плазменно-химическое осаждение | plasma-chemical deposition |
| плазменно-химическое осаждение из газовой фазы | plasma-chemical vapor deposition |
| плазмохимическое газофазное осаждение | plasma-enhanced chemical vapor deposition |
| плазмохимическое газофазное осаждение | plasma-assisted chemical vapor deposition |
| плазмохимическое осаждение | plasma-chemical deposition |
| плазмохимическое осаждение из газовой фазы | plasma-chemical vapor deposition |
| покрытый методом атомно-слоевого осаждения | ALD-coated |
| покрытый методом атомно-слоёвого осаждения | ALD-coated |
| покрытый методом газофазного химического осаждения | CVD-coated (о материале) |
| покрытый методом модифицированного газофазного химического осаждения | MCVD-coated (о материале) |
| покрытый методом модифицированного химического осаждения из газовой фазы | MCVD-coated |
| покрытый методом модифицированного химического осаждения из паровой фазы | MCVD-coated |
| покрытый методом плазмостимулированного газофазного осаждения | PECVD-coated |
| покрытый методом плазмохимического газофазного осаждения | PECVD-coated |
| покрытый методом физического осаждения из газовой фазы испарением в электрической дуге | arc-PVD-coated |
| покрытый методом физического осаждения из газовой фазы термическим испарением | TVD-coated (о материале) |
| покрытый методом физического осаждения из газовой фазы электронно-лучевым испарением | EBVD-coated (о материале) |
| покрытый методом химического осаждения из газовой фазы | CVD-coated |
| покрытый методом химического осаждения из паров металлоорганических соединений | MOCVD-coated (о материале) |
| покрытый методом химического осаждения из паров металлоорганических соединений при пониженном давлении | LPMOCVD-coated (о материале) |
| покрытый методом химического осаждения из паровой фазы | CVD-coated |
| поликристаллическая алмазная плёнка, изготовленная химическим осаждением из газовой фазы | CVD-fabricated polycrystalline diamond film |
| поликристаллическая алмазная плёнка, изготовленная химическим осаждением из паровой фазы | CVD-fabricated polycrystalline diamond film |
| поликристаллическая алмазная плёнка, полученная химическим осаждением из газовой фазы | chemical vapor deposition-produced polycrystalline diamond film |
| поликристаллическая алмазная плёнка, полученная химическим осаждением из газовой фазы | chemical vapor deposition-produced nanocrystalline diamond film |
| поликристаллическая алмазная плёнка, полученная химическим осаждением из паровой фазы | chemical vapor deposition-produced polycrystalline diamond film |
| поликристаллическая алмазная плёнка, полученная химическим осаждением из паровой фазы | chemical vapor deposition-produced nanocrystalline diamond film |
| полупроводник, изготовленный по технологии осаждения из газовой фазы металлоорганических химических элементов | MOCVD-technology-formed semiconductor |
| полупроводник, изготовленный по технологии осаждения из газовой фазы металлоорганических химических элементов | MOCVD-fabricated semiconductor |
| полупроводник, изготовленный по технологии осаждения из паровой фазы металлоорганических химических элементов | MOCVD-technology-formed semiconductor |
| полупроводник, изготовленный по технологии осаждения из паровой фазы металлоорганических химических элементов | MOCVD-fabricated semiconductor |
| полупроводник, изготовленный по технологии химического осаждения из паров металлоорганических соединений | metalorganic chemical vapor deposition-fabricated semiconductor |
| полупроводник, изготовленный по технологии химического осаждения из паров металлоорганических соединений при пониженном давлении | LPMOCVD-technology-formed semiconductor |
| полупроводник, изготовленный по технологии химического осаждения из паров металлоорганических соединений при пониженном давлении | low-pressure metalorganic chemical vapor deposition-fabricated semiconductor |
| предварительное осаждение | pre-deposition |
| процесс атомно-слоевого осаждения | ALD-process |
| процесс атомно-слоёвого осаждения | ALD-process |
| процесс газофазного химического осаждения | CVD-process |
| процесс модифицированного газофазного химического осаждения | MCVD-process |
| процесс модифицированного химического осаждения из газовой фазы | MCVD-process |
| процесс модифицированного химического осаждения из паровой фазы | MCVD-process |
| процесс осаждения из газовой фазы металлоорганических химических элементов | MOCVD process |
| процесс осаждения из газовой фазы металлоорганических химических элементов | metalorganic chemical vapor deposition process |
| процесс осаждения из паровой фазы металлоорганических химических элементов | MOCVD process |
| процесс осаждения из паровой фазы металлоорганических химических элементов | metalorganic chemical vapor deposition process |
| процесс плазмостимулированного газофазного осаждения | PECVD-process |
| процесс плазмохимического газофазного осаждения | PECVD-process |
| процесс плазмохимического газофазного осаждения | plasma-assisted chemical vapor deposition process |
| процесс плазмохимического газофазного осаждения | PACVD process |
| процесс физического осаждения из газовой фазы | PVD-process |
| процесс физического осаждения из газовой фазы | PVD process |
| процесс физического осаждения из газовой фазы | physical vapor deposition process |
| процесс физического осаждения из газовой фазы в электрической дуге | arc-PVD process |
| процесс физического осаждения из газовой фазы испарением в электрической дуге | arc-PVD-process |
| процесс физического осаждения из газовой фазы термическим испарением | TVD-process |
| процесс физического осаждения из газовой фазы электронно-лучевым испарением | EBVD-process |
| процесс физического осаждения из жидкой фазы | PLD-process |
| процесс химического газофазного осаждения | CVD process |
| процесс химического газофазного осаждения | chemical vapor deposition process |
| процесс химического осаждения из газовой фазы | CVD-process |
| процесс химического осаждения из газовой фазы | chemical vapor deposition process |
| процесс химического осаждения из паров металлоорганических соединений | MOCVD-process |
| процесс химического осаждения из паров металлоорганических соединений при пониженном давлении | LPMOCVD-process |
| процесс химического осаждения из паровой фазы | CVD-process |
| процесс химического осаждения из паровой фазы | CVD process |
| процесс химического осаждения из паровой фазы | chemical vapor deposition process |
| разреженное газофазное химическое осаждение | low-pressure chemical vapor deposition |
| реактор газофазного химического осаждения | CVD reactor |
| реактор газофазного химического осаждения | chemical vapor deposition reactor |
| реактор плазмостимулированного газофазного осаждения материалов | plasma-enhanced chemical vapor deposition reactor |
| реактор плазмостимулированного газофазного осаждения материалов | PECVD reactor |
| реактор плазмохимического газофазного осаждения | plasma-enhanced chemical vapor deposition reactor |
| реактор плазмохимического газофазного осаждения | PECVD reactor |
| реактор химического осаждения из газовой фазы | CVD reactor |
| реактор химического осаждения из газовой фазы | chemical vapor deposition reactor |
| рост с применением метода газофазного химического осаждения | chemical vapor deposition growth |
| рост с применением метода химического осаждения из газовой фазы | growth by CVD growth |
| рост с применением метода химического осаждения из газовой фазы | CVD growth |
| рост с применением метода химического осаждения из газовой фазы на основе механизма "пар-жидкость-кристалл" | CVD-VLS growth |
| рост с применением метода химического осаждения из паровой фазы | growth by CVD growth |
| рост с применением метода химического осаждения из паровой фазы | CVD growth |
| рост с применением метода химического осаждения из паровой фазы на основе механизма "пар-жидкость-кристалл" | CVD-VLS growth |
| с селективным осаждением | selectively-deposited |
| с химическим осаждением | chemically-deposited |
| синтез методом плазмостимулированного газофазного осаждения | plasma-enhanced chemical vapor deposition synthesis |
| синтез методом плазмостимулированного газофазного осаждения | PECVD-synthesis |
| синтез методом плазмостимулированного газофазного осаждения | PECVD synthesis |
| синтез методом плазмохимического газофазного осаждения | plasma-enhanced chemical vapor deposition synthesis |
| синтез методом плазмохимического газофазного осаждения | PECVD-synthesis |
| синтез методом плазмохимического газофазного осаждения | PECVD synthesis |
| синтез по технологии химического газофазного осаждения | CVD synthesis |
| синтез по технологии химического газофазного осаждения | chemical vapor deposition synthesis |
| синтез по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD synthesis |
| синтез по технологии химического осаждения из газовой фазы | chemical vapor deposition synthesis |
| синтез по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD synthesis |
| синтез по технологии химического осаждения из паровой фазы | chemical vapor deposition synthesis |
| синтез при атомно-слоевом осаждении | atomic layer deposition synthesis |
| синтез при атомно-слоевом осаждении | ALD synthesis |
| синтез при атомно-слоёвом осаждении | atomic layer deposition synthesis |
| синтез при атомно-слоёвом осаждении | ALD synthesis |
| синтезированный методом газофазного химического осаждения | CVD-synthesized (о материале) |
| синтезированный методом модифицированного газофазного химического осаждения | MCVD-synthesized (о материале) |
| синтезированный методом модифицированного химического осаждения из газовой фазы | MCVD-synthesized |
| синтезированный методом модифицированного химического осаждения из паровой фазы | MCVD-synthesized |
| синтезированный методом плазмостимулированного газофазного осаждения | PECVD-synthesized |
| синтезированный методом плазмохимического газофазного осаждения | PECVD-synthesized |
| синтезированный методом химического осаждения из газовой фазы | CVD-synthesized |
| синтезированный методом химического осаждения из паровой фазы | CVD-synthesized |
| скоростное физическое осаждение из газовой фазы | high-speed physical vapor deposition |
| скорость осаждения | deposition velocity |
| слой, выращенный методом химического осаждения из газовой фазы | CVD-grown layer |
| слой, выращенный методом химического осаждения из паровой фазы | CVD-grown layer |
| солнечный концентратор, изготовленный методом химического осаждения из газовой фазы | CVD-produced solar concentrator |
| солнечный концентратор, изготовленный методом химического осаждения из паровой фазы | CVD-produced solar concentrator |
| способ непрерывной подачи рулонного материала для осаждения на него материалов толщиной, сравнимой с размерами атома | roll-to-roll (auburn) |
| техника осаждения | deposition team |
| углеродное нановолокно, выращенное методом плазмостимулированного газофазного осаждения | PECVD-grown carbon nanofiber |
| углеродное нановолокно, выращенное методом плазмостимулированного плазмохимического газофазного осаждения | PECVD-grown carbon nanofiber |
| управляемое осаждение | controlled deposition |
| установка для выращивания методом газофазного химического осаждения | CVD growth unit |
| установка для выращивания методом химического осаждения из газовой фазы | CVD growth unit |
| установка для выращивания методом химического осаждения из паровой фазы | CVD growth unit |
| установка для синтеза по технологии химического газофазного осаждения | chemical vapor deposition synthesis facility |
| установка для синтеза по технологии химического газофазного осаждения | CVD synthesis facility |
| установка для синтеза по технологии химического осаждения из газовой фазы | chemical vapor deposition synthesis facility |
| установка для синтеза по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD synthesis facility |
| установка для синтеза по технологии химического осаждения из паровой фазы | chemical vapor deposition synthesis facility |
| установка для синтеза по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD synthesis facility |
| установка плазмо-химического осаждения | plasma-chemical deposition set |
| установка плазмохимического осаждения | plasma-chemical deposition facility |
| формирование ионным осаждением | ion deposition-based formation |
| формирование по технологии атомно-слоевого осаждения | atomic layer deposition technology-assisted formation (напр. нанопленки) |
| формирование по технологии атомно-слоевого осаждения | ALD-technology-assisted formation (напр. нанопленки) |
| формирование по технологии атомно-слоёвого осаждения | atomic layer deposition technology-assisted formation (напр. нанопленки) |
| формирование по технологии атомно-слоёвого осаждения | ALD-technology-assisted formation (напр. нанопленки) |
| формирование по технологии газофазного химического осаждения | CVD-technology-assisted formation |
| формирование по технологии модифицированного газофазного химического осаждения | MCVD-technology-assisted formation |
| формирование по технологии модифицированного химического осаждения из газовой фазы | MCVD-technology-assisted formation |
| формирование по технологии модифицированного химического осаждения из газовой фазы на основе механизма "пар-жидкость-кристалл" | MCVD-VLS-technology-assisted formation |
| формирование по технологии модифицированного химического осаждения из паровой фазы | MCVD-technology-assisted formation |
| формирование по технологии модифицированного химического осаждения из паровой фазы на основе механизма "пар-жидкость-кристалл" | MCVD-VLS-technology-assisted formation |
| формирование по технологии химического осаждения из газовой фазы | CVD-technology-assisted formation |
| формирование по технологии химического осаждения из газовой фазы на основе механизма "пар-жидкость-кристалл" | CVD-VLS-technology-assisted formation |
| формирование по технологии химического осаждения из паровой фазы | CVD-technology-assisted formation |
| формирование по технологии химического осаждения из паровой фазы на основе механизма "пар-жидкость-кристалл" | CVD-VLS-technology-assisted formation |
| фотоизбирательное осаждение | photoselective deposition |
| фотоэлектрохимическое осаждение | photoelectrochemical plating |
| функционализация атомно-слоевым осаждением | atomic layer deposition functionalization |
| функционализация атомно-слоевым осаждением | ALD functionalization |
| функционализация атомно-слоёвым осаждением | atomic layer deposition functionalization |
| функционализация атомно-слоёвым осаждением | ALD functionalization |
| химически индуцируемое осаждение | chemically-induced deposition |
| химическое осаждение вещества из газовой фазы | chemical vapor plating |
| химическое осаждение вещества из паровой фазы | chemical vapor plating |
| химическое осаждение из газовой фазы на горячую стенку | hot-wall chemical vapor deposition |
| химическое осаждение из газовой фазы с катализатором | catalyst chemical vapor deposition |
| химическое осаждение из газовой фазы с плавающим катализатором | floating catalyst chemical vapor deposition |
| химическое осаждение из газовой фазы с помощью нагреваемой проволоки | hot wire assisted chemical vapor deposition |
| химическое осаждение из паров металлоорганических соединений | metalorganic chemical vapor deposition |
| химическое осаждение из паровой фазы на горячую стенку | hot-wall chemical vapor deposition |
| химическое осаждение из паровой фазы с жидким источником | liquid-source chemical vapor deposition |
| химическое осаждение из паровой фазы с катализатором | catalyst chemical vapor deposition |
| химическое осаждение из паровой фазы с плавающим катализатором | floating catalyst chemical vapor deposition |
| химическое осаждение из паровой фазы с помощью нагреваемой проволоки | hot wire assisted chemical vapor deposition |
| химическое осаждение из разреженной газовой фазы | low-pressure chemical vapor deposition |
| химическое осаждение из разреженной паровой фазы | low-pressure chemical vapor deposition |
| химическое осаждение раствора | chemical solution deposition |
| химическое пучковое осаждение | chemical beam deposition |
| электронно-лучевое нанесение покрытий методом осаждения из паровой фазы | electron beam physical vapor deposition (MichaelBurov) |
| электронно-лучевое нанесение покрытий методом осаждения из паровой фазы | EVPVD (MichaelBurov) |
| электронно-лучевое нанесение покрытий методом осаждения из паровой фазы | EV/PVD (MichaelBurov) |
| электронно-лучевое нанесение покрытий методом осаждения из паровой фазы | EB-PVD (MichaelBurov) |
| электронно-лучевое физическое осаждение из паровой фазы | EBPVD (Electron beam physical vapor deposition Hay_Pendergast) |
| электронно-лучевой метод осаждения из паровой фазы | electron beam physical vapor deposition (cgbspender) |
| электронно-лучевой метод осаждения паров | EV/PVD (MichaelBurov) |
| электронно-лучевой метод осаждения паров | electron beam physical vapor deposition (MichaelBurov) |
| электронно-лучевой метод осаждения паров | EVPVD (MichaelBurov) |
| электронно-лучевой метод осаждения паров | EB-PVD (MichaelBurov) |
| электрофорезохимическое осаждение | electrophoresochemical deposition |
| электрохимически индуцируемое осаждение | electrochemically-induced deposition |
| электрохимическое осаждение | ECD (electrochemical deposition carp) |
