 |
| |||
| фоторезист, нанесённый в два слоя (метод устранения точечных проколов маски при изготовлении ИС или ПП); двуслойный фоторезист | |||
| двойная маска из фоторезистора | |||
| двойной слой фоторезиста; двойной фоторезист | |||
| нанесение двойного слоя фоторезиста (метод устранения проколов в слое фоторезиста при изготовлении ИС путём нанесения и экспонирования двух слоёв фоторезиста); нанесение фоторезиста в два приёма (method, метод устранения точечных проколов маски при изготовлении ИС или печатных плат) | |||
| двухслойный фоторезист | |||